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Semiconductor 의 구조
< 그림 3 > 유기반도체 Oranic TFT Device 의 구조
유기 반도체 소자의 제조에 있어서는 우선 사용하는 유기 반도테 소재의 광전자적 특성(전자 여기 상태, 엑시톤(Exciton) 결합 에너지의 크기, 소자에서의 전하 주입 및 수송성
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Semiconductor Device Fabrication , Mc Graw-Hill,Inc., 1995, pp595
3. 윤현민, 이형기 , 반도체 공학, 복두출판사, 1995, pp.218
4. 김형열, 반도체 공정 및 측정 , 전자자료사, 1995, pp.123
5. 이종덕, 실리콘집적회로 공정기술, 대영사, 1997, pp.149
6.반도체 산업 및 반도
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Semiconductor Device Fabrication\', Mc Graw-Hill,Inc., 1995
[4] 황호정, ‘반도체 공정기술’, 생능출판사, 1999
[5] 윤현민, 이형기, \'반도체 공학\', 복두출판사, 1995
[6] 이종덕, \'실리콘집적회로 공정기술\', 대영사, 1997
[7] 신현국, \'CVD/ALD 재료 기술 동향\', (
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Semiconductor
-www.analog.com
Analog Device Corporation
-www.intel.com
Intel
-www.sec.co.kr
Samsung Electronic Coporation
-www.gensemi.com
General Semiconductor
-www.st.com
SGS Thomson
-www.atmel.com
ATMEL
-www.fairchildsemi.com
Fairchild Semiconductor
-www.harris.com Ⅰ.서론
1.작품 배경
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