나노 임프린트[Nano Imprint]공정에 대한 조사 자료
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나노 임프린트[Nano Imprint]공정에 대한 조사 자료에 대한 보고서 자료입니다.

목차

나노 임프린트의 기술개요

선진국 나노 임프린팅 기술 동향

UV임프린트

본문내용

○ 나노 임프린트의 기술개요
나노 임프린트는 초미세 가공인 나노 가공(1~100㎚)을 실현하기 위해 제안된 기술로 기판 위에 열가소성 수지나 광경화성 수지를 도포한 다음 e빔을 이용, 나노 크기의 몰드로 압력을 가해 경화시켜 패턴을 전사하는 기술을 말한다. 나노 임프린트 기술을 활용하면 현재 반도체공정에서 사용하는 사진현상 방식의 미세화 한계점을 극복하고 도장 찍듯 간단하게 나노구조물을 제작할 수 있게 된다. 또한 나노 임프린트 기술을 활용하면 현재 100㎚급인 미세 공정이 10㎚급으로 향상돼 차세대 반도체 분야의 기술 발전이 촉진될 것이다. 특히 나노 임프린트 기술은 차세대 반도체 및 평판디스플레이용 회로 형성 기술로 인정되고 있기도 하다.
나노 임프린트 기술의 배경이 되는 나노기술이란 ´나노미터 크기의 물질(나노물질)들이 갖는 독특한 성질과 현상을 찾아내고 이러한 성질을 갖는 나노물질을 정렬시키고 조합하여 매우 유용한 성질의 소재, 디바이스 그리고 시스템을 생산하는 과학과 기술´을 말한다. 노벨화학상 수상자인 코넬 대학의 Roald Hoffmann 교수는 나노기술에 대해 이렇게 말했다. "나노기술은 매우 섬세한 성질을 지닌 매우 작은 축조물들을 천재적인 능력으로 매우 정밀하면서도 우아하게 그리고 환경친화적으로 축조하는 방법이며 이 방법을 통해서만 인류의 미래가 있다."
○ 선진국 나노 임프린팅 기술 동향
EE타임스는 몰큘러임프린츠(MII), 나노엑스, 오브듀캣 등이 이미 나노 임프린트장비를 시판했거나 출시를 준비중이라고 보도했다. 나노엑스는 30만~70만 달러 가격대의 나노임프린트 리소그래피 장비 판매에 들어갔다. 이 회사의 창업자인 스티븐 초는 한 고객사가 자사의 시스템을 광학기기 생산에 사용하고 있다고 밝혔다. 또 프린스턴대의 한 연구팀은 나노엑스의 시스템을 이용해 100㎚ 이하 공정의 ´MOSFET´를 개발 중이다.

참고문헌

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키워드

  • 가격700
  • 페이지수3페이지
  • 등록일2006.09.23
  • 저작시기2006.6
  • 파일형식한글(hwp)
  • 자료번호#364821
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