강유전체 cvd

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전문지식 4건

	RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가 참고문헌 ● 네이버 지식 - 재료과학과 공학 ● 한국 세라믹 학회지 1990년 27권 1호 ● 한국 세라믹 학화지 2003년 40권 1호 ● 물리학과 첨단세계 2005년 10월 ■ 박막 제조 공정 펌프종류 ● Sputtering의 종류 PVD CVD 유전체란 강유전체란 RF-magnetron sputtering 박막, 박막형 강유전체의 특성평가 강유전체, RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가,	페이지 13페이지 가격 2,000원 등록일 2008.12.01 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 있음 최근 2주 판매 이력 없음
	유전체의 종류, 특성 및 용도, 박막의 제조 공정 종류 ① DC sputtering : ② RF sputtering ③ reactive sputtering ④ magnatron sputtering ○ RF sputtering ① Self bais : ● Hybrid and modified PVD Processes ․ Ion Platind 법 ● PVD박막의 비교 ● ARC PLASMA DEPOSITION ● CVD의 종류 ■ 유전체의 범주 강유전체 cvd, 박막 제조 공정 pump의 종류, 유전체의 종류, 특성 및 용도, 박막의 제조 공정,	페이지 14페이지 가격 3,000원 등록일 2010.01.26 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 있음 최근 2주 판매 이력 없음
	박막(Thin film) CVD 장치와 스파터 장치는 원리가 다르기 때문에 공통적인 대책은 찾기 어렵다. * PLD(Pulsed laser deposition)란? 펄스레이저 증착법 (Pulsed laser deposition (PLD) 또는 Laser ablation) 방법이 산화물 박막을 연구 하는 연구진 들에 의하여 널리 사용되고 있다 박막 CVD, VLSI 흡착, 박막(Thin film),	페이지 21페이지 가격 3,000원 등록일 2008.10.29 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 있음 최근 2주 판매 이력 없음
	박막(Thin film) CVD 장치와 스파터 장치는 원리가 다르기 때문에 공통적인 대책은 찾기 어렵다. * PLD(Pulsed laser deposition)란? 펄스레이저 증착법 (Pulsed laser deposition (PLD) 또는 Laser ablation) 방법이 산화물 박막을 연구 하는 연구진 들에 의하여 널리 사용되고 있다 박막 CVD, VLSI 흡착, 박막(Thin film),	페이지 21페이지 가격 1,500원 등록일 2008.10.29 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 있음 최근 2주 판매 이력 없음