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< Lithography >
리소그래피 (Lithography)
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1. 개요 및 응용분야
미세 가공 기술 개발의 선두에 있는 DRAM 기술에 있어서 리소그래피 기술은 항상 전체 기술의 개발을 좌우하는 중요한 요인이 되어 왔다. 현재 리소그래피 기술에
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전자빔의 궤도 반경 및 전자빔의 에너지를 작게한 리소그래피 전용의 소형
싱크로트론이 완성됨 X-ray Lithography
x-ray lithography의 기본원리
x-ray 리소그래피 주요특징
마스크의 투과도
회절효과
싱크로트론 방사광
장점
단점
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결국에는 PR Pattern만 남게 되는 것이다. *포토 리소그래피 (Photo Lithography)
*포토 레지스트 (Photo Resist)
*마스크 어라이너 (Mask Aligner)
*코팅 (Coating)
*노광 (Exposure)
*현상 (Development)
*스퍼터링(Sputtering)
*리프트 오프(Lift-off)
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Lithography 란?
집적회로 제조과정에서 마스크(mask) 상의 회로 패턴을 웨이퍼(wafer)
위에 옮기를 공정
석판화 기술, 인쇄 기술 : litho(돌) + graphy(그림, 글자)
Clean Wafer
Wafer 표면의 유기물, 이온, 금속 불순물의
오염을 막기 위해 화학적으로 세
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리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4) 리소그래피 방법
① Photoresist coat (PR 코팅)
② Soft Bake(소프트 베이크)
③ Photo exposure(노광)
④ Develop(현상)
⑤ Hard bake(하드 베이크)
5) 향후의
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리소그래피(e-beam lithography)나 포토리소그래피(photo-lithography) 방식에 비해 시스템구성이 간단한 장점이 있다.
반응성 이온 식각공정을 위한 패턴 형상, 즉, 최저면에서 실리콘 웨이퍼의 면이 드러나고, 최저면과 최고면의 대조비가 큰 형상을
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6_Flexible Display (고려대학교 권재홍, 정진
욱, 이영훈, 이원희) 1. 서 론
2. 이 론
1) PDMS (Polydimethylsiloxane)
2) Nano Transfer Printing
3) Decal Tranfer Lithography (DTL)
4) ITO (Indium Tin Oxide)
3. 실험방법
4. 결과 및 고찰
5. 결 론
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리소그래피 기술을 이용한 게이트 제작
- 저온 전기 측정을 통한 양자점 트랜지스터 특성 분석
○ 연구 기대 효과
본 연구를 통해 고성능 양자점 트랜지스터 개발을 통한 전자 소자 기술 발전 및 양자 컴퓨팅 등 새로운 응용 분야 개척을 통해
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기술과 탄소튜브를 이용한 나노센서에 대해서 발표를 하였습니다. 과목을 수강하면서 웨이퍼의 공정과정 및 Lithography 기술에 대해서 공부를 하였습니다. 그 결과 저에게는 Photomask 및 웨이퍼에 대한 조금의 지식을 쌓게 되었습니다.
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리소그래피, 에칭, 박막성장 등을 배우면서 반도체공정의 기초를 익히고 그 응용분야에 대해 흥미롭게 배웠습니다. 그러나 화학공학을 전공한 제게 반도체공정 분야에 대한 진학은 큰 도전이었고 관련 전공자들 사이에서 자칫 비주류가 되어
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리소그래피 공정을 설명한다고 생각하고 설명해보세요.
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본인의 전공 활용을 어떤 방식으로 할것인지?
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반도체가 기억을 저장하는 원리에 대해서 본인의 전공에 빗대어 설명해주세요.
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자신이 했던 업무중 문제해결 경험을 상세히 설명
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Lithography 공정을 사용했습니다. 이론으로 재미있게 배운 공정의 실제 실험을 통해 공정이 단순한 재미가 아닌 디스플레이의 서포터로서 중추적인 역할을 한다는 것을 느꼈습니다. 처음엔 나노 과학 및 기술수업에서 했던 반도체 나노 공정에
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