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전문지식 621건

공정인 표기와 포장을 함, 소자번호와 날짜가 표시됨 Fabrication process of CMOS (CMOS 제작공정) ■ CMOS ■ 웨이퍼제작 ■ CMOS 집적회로 제작에 사용되는 공정 ■ CMOS 집적회로 제작 ■ BiCMOS 집적회로 제작(향상된성능) ■ 마무리
  • 페이지 9페이지
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  • 등록일 2013.08.07
  • 파일종류 한글(hwp)
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공정을 이용 제작 빛을 조절하는 스위치 1인치 내외의 반도체 48~190만 마이크로 미러 16마이크론 미러(0.1hair) Digital LighProcessing(DLP) DLP의 구조 및 동작원리 DLP 기술의 핵심 DMD DMD의 구조 및 동작 원리 DMD Fabrication Process DLP Applic
  • 페이지 48페이지
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  • 등록일 2007.12.24
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  • 최근 2주 판매 이력 없음
of plasma processes to VLSI technology, Wiley, New York, 1985 [2] Trikon Technology, http://www.pmat.com/ [3] Berkeley University EECS dept. , http://www.berkeley.edu/ [4] Lam Research Corporation, http://www.lamrc.com/ [5] ASTeX , http://www.aven.org/Astex.html [6] PlasmaQuest, http://www.plasmaque
  • 페이지 30페이지
  • 가격 3,000원
  • 등록일 2010.05.18
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 참고문헌 없음
  • 최근 2주 판매 이력 없음
Process  ∎ Deposition Step : 증착 공정  ∎ Photolithography Step : 현상 공정  ∎ Etching Step : 식각 공정 ■ 박막 트랜지스터를 배열하여 제작하는 공정 ■ Wafer 대신에 유리를 사용 ■ 300 ~ 500℃의 공정온도를 유지 Hazard of TFT-LCD Manufac
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  • 등록일 2013.08.07
  • 파일종류 피피티(ppt)
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  • 최근 2주 판매 이력 없음
공정에 쓰이는 장비의 사용목적과 쓰임을 안다 각 공정단계를 간편화 정밀화 함으로써 더욱 더 좋은 Quality 를 갖는 반도체 소자를 만들 수 있도록 연구 1. Objective 2. LED? 3. Theory Explanation 4. Fabrication process of LED 5. Equipment 6. Summar
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  • 등록일 2007.07.03
  • 파일종류 피피티(ppt)
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논문 15건

실험 결과 및 고찰 Ⅲ. 실리콘 주형의 제작과 분광기의 제작 1. 반응성 이온 식각 공정(RIE;Reactiva Ion Etching Process) 2. UV 몰딩(UV-molding) 공정을 이용한 분광기의 제작 3. 분광기(Spectroscopic component)의 특성 고찰 Ⅳ. 결 론 Ⅴ. 참고 문헌
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  • 발행일 2010.03.05
  • 파일종류 한글(hwp)
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  • 저자
- techniques yield tiny hairpin-line resonator filter", MW&RF November 1999 [5] 곽우영,박진우, “ Hairpin Line 여파기의 간단화된 등가회로”, 한국통신학회논문지 99-9 Vol.24 N0.9A Ⅰ. 서 론 Ⅱ. 설계 이론 Ⅲ. 설계 및 시뮬레이션 Ⅳ. 제작 및 측정 Ⅴ. 결
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  • 발행일 2008.11.18
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 발행기관
  • 저자
보안 1. 전자서명제도의 도입 문제 2. 시스템의 결함문제 VI. 전자투표제도의 공정성 확보 1. 전자의사록제도 2. 주주총회의 검사인제도 3. 독립된 전자투표관리기관을 통한 운영 제4절 소 결 제5장 결 론 참고문헌 ABSTRACT
  • 페이지 93페이지
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  • 발행일 2008.05.02
  • 파일종류 한글(hwp)
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  • 저자
공정 3.1 CIGS 태양전지 연구 필요성 및 개요 3.2 CIGS 태양전지의 핵심 제조기술 3.2.1 기판(Substrate) 3.2.2 배면전극(Back contact) 3.2.3 광흡수층 3.2.4 완충(Buffer) 층 3.2.5 윈도우(Window) 층 3.2.6 반사방지막과 전극 3.2.7
  • 페이지 52페이지
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  • 발행일 2009.02.03
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 발행기관
  • 저자
-Amylase 1.2 E. coli 1.3 S. lividan 1.4 Structure of cells and release area 2 본론 /21 2.1 E. coli A /21 2.2 E. coli B /47 2.3 S. lividan A /69 2.4 S. lividan B /87 3 결론 3.1 최적 Route 별 경제성 분석 및 최종 공정 도출 /101 3.2 민감도 분석 /105 3.3 특정 상황을 가정
  • 페이지 94페이지
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  • 발행일 2010.01.22
  • 파일종류 워드(doc)
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취업자료 18건

of consideration입니다. 1. 자연인, 자작자동차동아리입니다. 2. 솔라셀 Ladybird 로봇청소기는 저희 팀이 만든 졸업 설계 작품입니다. 복학 후 제 목표는 4.0을 넘어 보는 것이었습니다 첫 번째는 철저하고 꼼꼼한 성격입니다. 두 번째는
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  • 등록일 2015.05.03
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  • 직종구분 일반사무직
공정교육을 수료하였습니다. 단위공정은 물론 LOCOS, CMOS 등의 실습과정을 통하여 반도체공정에 대한 전반적이 이해와 함께 직접 양산장비를 다루어 보고 소자제작에 참여하여 학사출신의 단점을 보완하고자 노력해 왔으며 프로젝트의 일환으
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  • 등록일 2013.10.15
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 일반사무직
CMOS Image Sensor) 반도체에 대해 얼마나 알고 있나요? 19. CCD와 CMOS 중 어떤 것이 경쟁력있다고 생각됩니까? 20. 식각공정에 관심이 있다고 했는데 식각공정과 선택비에 대해 설명해보세요. 21. 데이터 분석 툴을 사용하기 위해 필요한 역량이 무
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  • 등록일 2023.11.17
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 기타
of challenge. I am confident in this regard that I am the most appropriate because my life itself consists of your required elements such as; academic enthusiasm to learn something new since being admitted to the college; unyielding mindset over the obstacles I face through backpack journey to Europ
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  • 등록일 2009.01.05
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  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
제작하여 입력전압을 승압시키고 교류로 변환하는 과정을 시뮬레이션을 통해 확인하였고 Sin파형과 carrier파형을 비교기에 입력으로 넣어 원하는 PWM 출력파형 결과를 얻으며 보이지 않는 전자의 흐름을 읽어 회로도를 해석하는 과정이 흥미로
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  • 등록일 2021.07.21
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
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