암실구조및 조건

목차

1) 암실의 기본적인 조건과 구조

2) 인화현상 준비

본문내용

속도를 유지하나 온도가 올라갈수록 현상속도가 빨라지고 30℃가까이 온도가 올라간다면 급속한 현상이 이루어지기 때문에 20±0.5℃에서 사용하여야 좋다. 저온( 20℃ 이하 )에서 현상할 경우 현상작용이 약화되어 콘트라스트가 약하고 농도가 부족하며, 고온 ( 20℃ 이상)에서는 현상작용이 격렬하여 화상이 흐려지고 입자가 거칠어지며 콘트라스트가 강해진다.

키워드

암실구조,   조건,   구조,   인화현상,   준비