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Cleaning(10분) [1]
7. 참고문헌 :
[1] - 실험 참고자료
[2] - http://www.lasercleaningafrica.com/functional-principle.html
[3] - http://iopscience.iop.org/0963-0252/21/5/055030/article
[4] - http://www.sunhayato-korea.com/ozon-cleaner.htm
[5] - http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=502869&cid=50324&c
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PLED 기술 개발 현황과 과제 / 물리학의 첨단기술(2003. 04) / 정호균(삼성SDI) PLED의 제작 과정 및 발광 원리
1. 서론
2. 실험 방법
가. ITO Scribing
나. ITO Glass Cleaning
다. ITO Pattering
라. Solution Process를 이용한 적층
마. EIL 및 전
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ITO 기판의 Cleaning(전처리)
② Spin coater위에 기판을 올려놓고 진공을 잡아 고정시킨 후, photo resister를
뿌려 전면에 고르게 코팅
③ PR coating 후 잔류용매를 제거하고 기판과의 접착력을 높히기 위하여
soft baking(100℃, 10분) 실시
④ 원하는 pattern
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4) 금속전극 증착공정
5) 봉지공정
1. OLED와 PLED의 차이점에 대해 조사한다
2. 소자 제작시 각 layer의 특성에 대해 알아본다
3. Key word
5. 기구 및 시약
5-1. 기구
5-2. 시약 [sigmar사 웹사이트 참고]
6. 실험방법
7. 참고문헌 :
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Cleaning(10분)
7. 참고문헌
[1]. http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=654138&cid=42326&categoryId=42326
[2]. http://ko.wikipedia.org/wiki/%EC%95%84%EC%9D%B4%EC%86%8C%ED%94%84%EB%A1%9C%ED%95%84_%EC%95%8C%EC%BD%94%EC%98%AC
[3]. http://en.wikipedia.org/wiki/Isopropyl_alcohol
[4]. http://terms.naver.co
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재료)+ 산요(저온poly-TFT)+일본진공기술(박막제조기술)
Pioneer
Pioneer(양산 경험)+샤프, SEL(저온 poly-TFT)
ELDIS 설립
소니
소니(저온 poly-TFT)+토요다(수요자)
STLCD 설립
SNMD
삼성SDI(STN LCE)+NCE(기초기술)
고분자
세이코 제 1장 서 론
제 2장 기술동
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