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출원을 용이하게 하여야 할 것이며,선
출원주의 국가에선 빨리 상표를 출원함으로써 도용이나 선출원을 방지해야 한다.
========= 참 고 문 헌 =========
1. 2003 특허지식백서, 특허청
2. 상표법, 법제처
3. 이코노미 21, 한겨레신문사
4. 내일신문 2005.3
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hollow cathode 소오스와 RF소오스를 사용하였고 이를 제소
2) 청구항 해석
5. 균등의 법리하에 침해여부
1) Honeywell의 주장
2) Litton의 주장
3) 최고 재판소의 주장
4) 판결
6. 출원절차 금반언의 법리의 범위
Ⅵ. 결론 및 제언
참고문헌
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출원서(의장을 표현하는 도면이 반드시 필요하며 사진이나 모형 또는 견본제출도 가능)
(2) 출원인코드부여신청서(최초 출원 시 선행절차)
(3) 위임장(출원등록대행을 변리사에게 위임하는 경우)
3. 출원 후 등록까지의 절차
의장등록은 신규성
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등록된 의장은 다음의 요건 외에 먼저 출원되어 있지 않은 것 등의 요건을 충적시키는 것이다.
◎ 공업상 이용 가능한 것일 것
◎ 신규성이 있을 것
◎ 쉽게 창작되는 것이 아닐 것
[등록의장의 구체적인 사례]
의장권은 출원 후 특허청의 심
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특허에 대한 침해 방지
2) 타인의 특허침해 확인
3) Licensing 기회
2. 기술적인 측면
1) 불필요한 R&D 노력 방지
2) 기술동향 및 개발상황 조사
3) 기술이전 기회
4) 기술적인 영감과 탐구
3. 상업적인 측면
1) 경쟁 정보
2) R&D 자산의 자본화
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중소제조업 해외투자 실태조사의 시사점
Ⅷ. 향후 중소기업의 정책 방향
1. 정책방향
1) 지식정보기반 확충
2) 창업활성화
3) 글로벌 경쟁력 강화
4) 전략 기반산업 육성
2. 중소기업 비젼(산업연구원 추정)
Ⅸ. 결론
참고문헌
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특허
2) 실용신안
3) 의장
4) 상표
2. 신지식재산권
1) 첨단산업재산권
2) 산업저작권
3) 정보재산권
Ⅴ. 산업재산권의 주요법령
1. 특허법
2. 실용신안법
3. 의장법
4. 상표법
5. 관련법
1) 발명진흥법
2) 변리사법
3) 부정경쟁방지및영
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경쟁력을 확보하기 위하여는 특허적 보호방법이 일응 타당성이 있어 보이나 유행성이 강한 의장과 미술적의장에 대하여는 저작권적인 보호방법을 채용하여 창작자의 필요에 따라 일정기간에 한하여 독점배타권을 부여하는 새로운 모델의
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특허를 받을 수 있기 위해서는 아래에서 요구하는 몇가지의 요건을 충족하여야 한다. 일반적으로 특허요건은 「주체적요건」,「객체적요건」 및 「절차적요건」으로 구분된다.
1.주체적 요건
주체적 요건이란 발명자(출원인)가 갖추어야 될
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(발명진흥법 제29조 제1항)
3) 신청절차
4) 문의처
4. 조정결과
1) 조정성립
2) 조정불성립
Ⅶ. 산업재산권의 3법
1. 산업재산권 3법의 보호대상
2. 특허권(실용신안권), 의장권, 상표권의 등록요건
Ⅷ. 중국의 산업재산권 사례
참고문헌
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