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Ion Beam System)
1. 집속 이온빔 장치의 구조
2. 각 부분별 작동원리
3. 집속 이온빔 장치의 응용
SEM(Scanning Electron Microscope)
1. 주사전자현미경(SEM)이란?
2. SEM의 작동 원리
3. SEM의 구성
MgO 보호막
1. MgO 보호막의 조건 및 역할
2. MgO
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빔 증발 증착법
4.4. 스퍼터링- 음극스퍼터링(cathode sputtering)
4.4.1. 직류스퍼터링(DC sputtering)
4.4.2. 고주파 스퍼터링(RF sputtering)
4.4.3. 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)
4.4.4. 이온빔 스퍼트링(Ion Beam Sputtering)
4.4.5. Bias Sputtering
4.5. 이온도
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이온 빔 스퍼터 기술의 사용이며, 특히 Kaufman gun ion beam 기술들의 사용이다.”(최초의 Kaufman형 한정)
1986. 7. 3. 103조 최종 거절, 특히 Bernard특허의 duoplasmatron 이온빔 소오스에 초점을 두고 출원인의 보다 좁은 “Kaufman 형 이온 빔 소오스”에 관
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이온 연마
- 화학 연마에 비해 속도가 매우 느리다. 그러나 속도가 느린 대신에 연마 속도 조절이 용이하고 연마를 중지해야 하는 시점을 정하기도 쉽다.
- 이온 연마에 필요한 장비 가격이 훨씬 비싼 단점이 있다.
- 이온빔 연마 :본래 화학 연
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이온 연마
- 화학 연마에 비해 속도가 매우 느리다. 그러나 속도가 느린 대신에 연마 속도 조절이 용이하고 연마를 중지해야 하는 시점을 정하기도 쉽다.
- 이온 연마에 필요한 장비 가격이 훨씬 비싼 단점이 있다.
- 이온빔 연마 :본래 화학 연
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