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(mm)
바깥쪽(mm)
평균(mm)
8
66.5
22.78
28.08
25.43
28.08
51.76
39.92
9
74.5
20.86
39.18
30.02
26.40
46.57
36.485
10
82.5
20.31
37.06
28.685
25.92
43.83
34.875 Electron Diffraction
1. 개요
2. 이론
1) Bragg diffraction (브래그 법칙)
2) 전자총
3. 실험 방법
4. 실험 결과
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실험장치
- Electron diffraction. Tube a. mounting
- High voltage supply unit 0-10kV
- High-value resistor, 10 MOhm
- Power supply,0….600VDC
- Vernier caliper, plastic
- Connecting cord
4. 실험방법
● 그림과 같이 실험장치를 배치하고 전원공급 장치에 전자회절 튜브의 소켓을 연
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electron Diffraction, 전자 beam을 이용하는 Low Energy Electron Diffraction, Reflection High Energy Electron Diffraction, 원자 단위의 resolution을 가지는 Scanning Tunneling Microscopy, Atomic Force Microscopy 등을 다양하게 구사해야 한다.
5. 참고 문헌
물리학 실험 B-2 XPS manual
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회절선만 크게 나타나게 된다.
3) 방향성을 갖는 시편
2. 2θ 축으로 주사
3. θ축으로 주사
4. θ-θ축으로 주사
(3) 시료의 충진
1. 알루미늄 시료판
2. 유리 시료판
3. 무반사 시료판
(4)XRD 실험방법
1. 분말X선회절법에 의한 동정법의 특징
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전자빔과 시편과의 상호작용
● 투과전자현미경(Transmision Electron Microscopy)
● 광학현미경과 전자현미경의 illumination system의 비교
● 명시야상 (Bright-Field Image)
● 암시야상 (Dark-Field Image)
● 회절패턴 (Diffraction pattern)
● 시편 제작 방
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실험을 진행하였다. 노광시간과 감광제 도포 조건에 대한 패턴 형상의 특성과 경향성을 고찰하였으며, 노광시간 55초와 감광제 도포 두께 150nm라는 공정 조건을 산출하였다. 이러한 과정을 거친 패턴을 이용해 반응성 이온 식각 공정을 적용,
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실험에 쓰인 촉매의 지지체로 사용된 γ-Al2O3는 60m2/g의 비표면적을 갖고 있으며, 5wt%의 담지량에서도 35.6。와 38.6。에서 CuO의 결정상이 뚜렷하게 관찰되었다. 또한, CuO의 Peak intensity는 Cu의 담지량이 높아질수록 커졌으며, 고온에서 주로 관찰되
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실험은 RF Magnetic sputtering 을 이용 하여 박막을 여러 조건 별로 성장하여 그 특성을 I-V 곡선을 이용하여 분석하고 전기적인 특성을 비교하였다. 이로써 NiO 박막을 이용하여 ReRAM을 구현 할 수 있다는 사실을 알 수 있는 실험이었다.
이번 실험은
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Electronic Devices and Circuit Theory, Robert L.Boylestad Louis Nashelsky | Prentice Hall
[7] 국립중앙과학박물관 www.science.go.kr
[8] 한국과학기술정보연구원 www.kisti.re.kr
[9] http://www.kitkorea.com
[10] http://www.avrmall.com/ishop/index.php
[11] http://www.terabank.co.kr
[12] http://www.elep
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6_Flexible Display (고려대학교 권재홍, 정진
욱, 이영훈, 이원희) 1. 서 론
2. 이 론
1) PDMS (Polydimethylsiloxane)
2) Nano Transfer Printing
3) Decal Tranfer Lithography (DTL)
4) ITO (Indium Tin Oxide)
3. 실험방법
4. 결과 및 고찰
5. 결 론
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, 고순도 배터리 소재를 제조하기 위한 정제 공정을 실험적으로 검증한 경험이 있습니다.
활용 가능한 연구장비(HW)로는 ICP-OES(유도결합플라즈마 분광법), SEM-EDS(주사전자현미경-에너지분석), XRD(엑스선 회절분석), TGA(열중량분석) 등을 사용하
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실험적으로 진행하고, 반응 메커니즘을 분석합니다.
- 나노소재 합성 및 특성 분석: 전자현미경(SEM, TEM), X선 회절분석(XRD), 라만 분광법(Raman Spectroscopy) 등을 활용하여 소재의 구조적 특성을 평가합니다.
전기화학적 분석: 전기화학적 임피던스
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전자회로 분석 능력과 현장 중심의 문제 해결 경험입니다. 군 복무 기간 동안 RF 송신기, 통신 증폭기, 전력 변환 장비 등 다양한 고주파 전자장비를 운용하고 점검했습니다. 특히 정기 점검 시 단순 점검표 확인을 넘어, 실제 장비 내 회로 흐
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