|
화학적 및 전기화학적 방법
① 음극 전해 성막법
② 무전극 또는 무전기 성막법
③ 양극 산화법
④ CVD (chemical vapor deposition)
⑤ 액상 에피탁시법
⑥ Langmuir-Bliogett막 형성법
⑦ 흡착방법
(2) 진공 증착
① 물리적 기초
② 실험 기술
(3) 이
|
- 페이지 21페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2008.10.29
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
공정의 개발과 새로운 제품의 개발 뒤에는 이렇듯 항상 피와 땀의 역사가 숨어 있는 것이다.
◈ 참고 자료
플라스틱 패키징의 기초와 응용, 김 청, (주)포장산업, 2003
생분해성플라스틱= Biodegradable plastics 이준우, 한국과학기술정보연구원 2002
|
- 페이지 12페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2005.11.09
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
이용 기술
태양 전지의 역사
태양 전지의 장점
태양 전지의 단점
태양 전지의 이해
태양 전지의 원리
태양 전지의 종류
태양 전지의 핵심 기술
태양 전지의 이용 분야
전세계 및 우리나라 동향/현황
|
- 페이지 10페이지
- 가격 2,300원
- 등록일 2013.07.05
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
공정인 졸-겔공정으로 나노크기의 조성 및 구조를 제어하여 나노소자 및 소재 개발
\'02∼\'06
(5년이내)
후보
12.미래형 나노
리소그래피 기술
(광, 전자선 제외)
신개념의 원리 및 기술을 적용하여 50 nm급 패턴제조기술, 선택적 화학반응을 통한
|
- 페이지 19페이지
- 가격 1,000원
- 등록일 2010.05.16
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
다양성 및 in-situ 공정의 실현 등에서 유리하며, 최근 많이 채택되고 있는 기술이다. 반도체 제조공정
반도체 제조의 주요 화학반응 공정 - 산화(oxidation) 공정
반도체 제조의 주요 화학반응 공정 - 화학기상증착(CVD) 공정
CVD 반응장치
에
|
- 페이지 13페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2010.05.30
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|