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활용되고 있 다.
<그림 1-20.1 PLD 기본원리>
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진
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기초
② 실험 기술
(3) 이온을 이용하는 방법과 음극 스퍼터링
① 2극 스퍼터링의 원리
② 음극 스퍼터링의 몇 가지 특수한 장치
③ 저압 음극 스퍼터링
④ 이온 프레이팅과 이온빔을 이용한 방법
5) 막의 두께 측정방법
6) 향후의 전망
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측정에 있어서 오차가 커질 가능성을 만든다. 게다가 저항의 색을 통한 판독으로 완전히 정확한 저항 값을 알 수 있는 것도 아니고 허용오차 이내의 범위에서 알 수 있는 것이므로 다른 저항부분 보다 조금 더 큰 오차를 나타낸 것으로 보인다
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직류전압의 측정전압범위는 2V ~ 1KV 까지 이며, 3¹/2-digit 으로서 최대 1999 까지 표현이 가능하다. 그러나 측정값이 1999보다 크면 1999가 깜박이거나 또는 빈칸이 발생하는등 세자리 수가 표시된다.
4. 전원장치에 전류 조정단자가 있는 경우에
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멀티미터를 통한 실험을 하고서 각 전압과, 전류, 그리고 저항에 따라 달라지는 값을 알 수 있었다. 일반적으로 옴의 법칙을(V=IR) 사용하면 정확한 값을 구할 수 있지만, 멀티미터를 사용한 실험을 통한 측정은 5% 정도 이내의 오차가 발생했다.
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