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수 : 3*1014분자/cm3
일반적으로 공업적으로 사용하는 플라즈마
- 만개/백만개의 분자나 원자중에 한 개가 이온화 된 플라즈마란 무엇인가?
플라즈마의 생성
플라즈마의 특성
Chamber안에서의 DC플라즈마
Chamber안에서의 RF플라즈마
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생성된 후에 남아있는 포토레지스트를 제거하는데 이는 'ashing'이라는 공정을 통해 이루어진다
소자층에 흠을 내지 않고 포토레지스트를 제거하는데 고온의 플라즈마가 사용된다. 이는 산소플라즈마 체계에서의 레지스트를 산화(태우는)시킴
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플라즈마 [Plasma] (시사상식사전, 2013)
플라즈마를 만들려면 흔히 직류, 초고주파, 전자빔 등 전기적 방법을 가해 플라스마를 생성한 다음 자기장 등을 사용해 이런 상태를 유지 하도록 해야한다.
[네이버 지식백과] 플라즈마 [Plasma] (시사상식
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생성된 후에 남아있는 포토레지스트를 제거하는데 이는 'ashing'이라는 공정을 통해 이루어진다.
소자층에 흠을 내지 않고 포토레지스트를 제거하는데 고온의 플라즈마가 사용된다. 이는 산소플라즈마 체계에서의 레지스트를 산화(태우는)시
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Plating 의 장점
◎ Ion Plating 의 원리
※ DC-diode 아르곤 방전
※ 아르곤 방전에서 음극에서의 충돌
※ 실제 ion plating 방전
◎ ION-PLATING 장비 및 공정
※ 장비
※ 공정
◎ 개발 방향
※ 상업적인 PAPVD 계
※ Coating에서의 변수
◎ reference
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