|
플라즈마를 이용한 RIE(Reactive Ion Etching) 공정에서의 미립자 발생에 미치는 공정 변수의 영향과 RF on-off 변조(modulation)의 영향.
VI. 직류 평판 Diode형 Al 스퍼터링 공정에서의 미립자 거동과 Ring 전극 첨가가 미립자 거동에 미치는 영향.
VII. 결
|
|
|
플라즈마' 상태로 존재하게 된다. 따라서 열핵융합발전은 플라즈마 응용에 있어서 가장 흥미로운 분야 중의 하나라고 말할 수 있다.
참고문헌
"Tokamaks" by John Wesson (1997)
7. 열플라즈마
열플라즈마(Thermal Plasma)는 직류 아크나 고주파 유도결합
|
|
|
플라즈마 방식은 양 전극에 인가되는 고주파 전원에 의하여 챔버 또는 반응로내에 글로우 방전을 발생시키는 방법이다. 그림2는 평행 평판형 전극구조를 갖는 일반적인 플라즈마 CVD 장치에 대한 개략도이다. 기판은 접지된 전극측에 놓이며,
|
|
|
1Hz 당 두 번 0v를 지나므로 초당 120번 깜빡이게 되는 것이다. 직류점등관을 사용하면 직류에서도 형광등을 켤 수 있다. 플라즈마란?
플라즈마 특징
플라즈마 이용범위
형광등과 플라즈마의 관계
형광등의 구조
작동원리
|
|
|
따라 효율적인 박막화 공정이 개발될 경우 기존 평판디스플레이 등에 사용되는 ITO전극을 대체할 수 있는 저가의 투명전극 구현이 가능할 것으로 예상된다. 플라즈마의 원리
플라즈마의 개요
플라즈마의 생성
플라즈마 이용분야
|
|
메뉴펼치기
