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Etching (식각)
#. 박막이 형성된 웨이퍼 위의 불필요한 부분을 제거하여 회로 패턴이 드러나도록 하는 과정.
#. 회로패턴을 형성시켜 주기 위해 화학물질 (습식)이나 반응성 GAS(건식) 를 사용.
#. 결정면에따른 식각 속도에 따라 이방성 식
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이후로는 Etching이 더 이상 진행하지 않을것이라고 예상한다.
6. 참고문헌
반도체 공정실험 Dry Etching 수업자료 PDF
화학용어사전 - 화학용어사전 편찬회, 윤창주, 2011. 1. 15, 일진사
반도체 공정플라즈마의 현황과 전망 한국물리학회 , 장홍영
바
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15권 1호, 광주교육대학교 초등교육연구소
이영기(1999), 초등판화지도, 아트에쥬, 대한미술교육연구원
이교선 외(1994), 미술교육학 개론, 교육과학사, 서울대학교 미술교육연구회
이종혁(1978), 어린이 미술교육, 미조사
한운성(1991), 판화세계,
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-3. 시편의 제조
Ⅱ-3-1. 마운팅(Mounting)
Ⅱ-3-2. 연마 (조연마, 정밀연마)
Ⅱ-3-3. 폴리싱(Polishing)
Ⅱ-3-4. 에칭(Etching)
Ⅱ-4. 현미경 조직관찰법
Ⅱ-5. XRD
Ⅲ. 실험장치 및 준비물
Ⅳ. 실험방법
Ⅴ. 참고문헌 및 자료
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etching …………………………………………………………15
1.2.5. 현미경 조직관찰 ………………………………………………16
1.2.6. 사진현상 ………………………………………………………19
1.2.7. 사진인화 ………………………
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실험 결과 및 고찰
Ⅲ. 실리콘 주형의 제작과 분광기의 제작
1. 반응성 이온 식각 공정(RIE;Reactiva Ion Etching Process)
2. UV 몰딩(UV-molding) 공정을 이용한 분광기의 제작
3. 분광기(Spectroscopic component)의 특성 고찰
Ⅳ. 결 론
Ⅴ. 참고 문헌
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