|
Mask에 비해 제작이 손쉬운 편이다.
(10) 참고문헌 & internet site
수업자료
하이닉스 반도체
네이버 백과사전
http://www.terms.co.kr
http://blog.naver.com/yusinwin?Redirect=Log&logNo=80029699867
http://www.chem.hanyang.ac.kr:8001/hanyang/professor6/upload/Photolithography.pdf
|
|
|
◈ 주제선정 동기
1. IT 산업의 중점인 반도체
2. 메모리부분 발전가능성
3. 기술면접에 대한 대비
4. 새로운 지식을 쌓을 수 있는 기회.
◈ 현 최신 기술 동향
AMD와 IBM이 공동으로 초 자외선( Extreme Ultra-Violet, EUV)마이크로 영상기술을
|
|
|
z) 기판 Mask를 말한다.● Stepper사진 노광 장치의 일종으로 Reticle의 Pattern을 광학 Lense를 사용하여 Wafer위에 축소 노광하여 전사하는 방식.● UV Light자외선(Ultra Violet Light)으로 적외선에 비해 파장이 짧고 Energy Density가 큰 특징이 있어 Photolithography
|
|
|
반도체 웨이퍼 위에 전자에 예민한 성질을 가지고 있는 레지스트 (resist)를 얇게 바른 후, 원하는 패턴을 마스크 없이 직접 전자빔를 가하여 그림을 그리거나 글씨를 쓰는 것과 같은 방법으로 회로를 구성한다. 전자빔 리소그라피는 미세 구조
|
|
|
빛을 받은 특정 부위만 화학적으로 변화하게 된다.
이를 용매(Developer)에 처리하면 노광된 부분 또는 노광되지 않은 부분만 녹아 결국 Mask의 Pattern이 Photo Resist로 구현된다. PHOTOLITHOGRAPHY 란?
PHOTORESIST의 정의
PHOTOLITHOGRAPHY 제작과정
|
|
메뉴펼치기
