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Photolithography :
특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용
얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정 photo
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Mask에 비해 제작이 손쉬운 편이다.
(10) 참고문헌 & internet site
수업자료
하이닉스 반도체
네이버 백과사전
http://www.terms.co.kr
http://blog.naver.com/yusinwin?Redirect=Log&logNo=80029699867
http://www.chem.hanyang.ac.kr:8001/hanyang/professor6/upload/Photolithography.pdf
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전체적인 흐름이 어느 정도 눈에 들어오는듯 합니다. 빨리 다음 실험을 통해서 반도체 공정에 대해서 더 자세히 알고 싶습니다. 1.실험제목 : Photolithography
2.실험목적
3.실험이론
4.실험방법
5.실험 결과 및 고찰
실험을 마치며...
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History of photolithography..
Historically, lithography is a type of printing technology that is based on the chemical repellence of oil and water.
In 1826, Joseph Nicephore Niepce, in Chalon, France, takes the first photograph using bitumen of Judea on a pewter plate, developed using oil of
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z) 기판 Mask를 말한다.● Stepper사진 노광 장치의 일종으로 Reticle의 Pattern을 광학 Lense를 사용하여 Wafer위에 축소 노광하여 전사하는 방식.● UV Light자외선(Ultra Violet Light)으로 적외선에 비해 파장이 짧고 Energy Density가 큰 특징이 있어 Photolithography
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Photolithography가 일반적이나 MEMS기술, Stamp기술, 금형 직가공 방법 등 다양한 가공 방법을 적용하고 있다. 이 중 일본 Omron사는 LED 한 개를 사용하여 도광판 코너에 위치시키고 Moth Eye 형태를 타원으로 배치시킨 것은 기술면에서 가장 앞서 있다고
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Photolithography가 일반적이나 MEMS기술, Stamp기술, 금형 직가공 방법 등 다양한 가공 방법을 적용하고 있다. 이 중 일본 Omron사는 LED 한 개를 사용하여 도광판 코너에 위치시키고 Moth Eye 형태를 타원으로 배치시킨 것은 기술면에서 가장 앞서 있다고
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