스퍼터교육자료 (SPUTTERING STUDY),진공(Vacuum) 아르곤(Argon) 박막(Thin film),

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스퍼터교육자료 (SPUTTERING STUDY),진공(Vacuum) 아르곤(Argon) 박막(Thin film),에 대한 보고서 자료입니다.

목차

1. Sputtering
1-1. 용어
1-2. Sputtering
1-3. Plasma
1-4. Sputtering 원리 및 특징
1-5. Sputtering 장단점
1-6. Sputtering 종류
1-7. Sputtering M/C

본문내용

◆ 스퍼터(Sputter)
- 스퍼터링 방식으로 박막을 제조하는 장치로 진공 상태에서 아르곤 가스를 소량 주입하고 한편에는 재료 물질인 원반형 타겟을 두고 반대 쪽에는 기판을 두고 둘 사이에 전압을 인가하되 직류(DC)와 라디오 주파수(rf), 중간주파수(mf)의 방식으로 한다.전압이 인가되면 아르곤이 이온화되고 전압에 의해 가속되며 타겟에 부딪히게 된다. 이때 타겟의 재료가 튀어나와서 반대쪽에 있는 기판에 붙어서 성장하게 되어 만들어진 것을 박막이라한다. 타겟의 이면에 특수한 자석을 붙여서 효율을 향상시킨다. 불활성 기체로 아르곤 이외에 크세논이 사용되기도 한다. 산소, 질소등의 반응성 기체를 첨가하여 반응성 스퍼터링을 하여 산화물과 질화물 박막을 제조한다.

◆ 진공(Vacuum)
물질이 전혀 존재하지 않는 공간.
보통 진공이라 하면 일정한 용기 안의 기체를 배기(排氣)한 고도의 감압상태
- 진공도는 잔류 기체의 압력으로 표시되고, 압력의 단위로는 mmHg를 쓰며, 이것을 E. 토리첼리의 이름을 따서 토르(torr)라 한다.
- 국제단위계에서는 1μbar가 쓰이는데, 파스칼(Pa)이라 부른다(133.322Pa=1torr).
- 현재 진공 펌프나 게터를 써서 도달할 수 있는 최고의 진공은 10-13torr 정도이고, 이상태에서의 잔류기체의 분자수는 1㎤ 중에 3,000개 정도이다.
- 1torr=1/760atm=133.322pa=1.33mbar , 1atm=760torr=760mmHg=1013mmbar=1013hpa

◆ 아르곤(Argon)
- 주기율표의 화학 원소로 기호는 Ar이고, 원자 번호는 18이다. 18족에 속하는 비활성 기체로 지구 대기의 약 1%를 차지하며, 비활성 기체 중 지구에서 가장 흔하다.

◆ 박막(Thin film)
- 기계가공으로는 만들 수 없는, 두께가 um 이하인 얇은 막을 의미한다. 세라믹은 불활성과 상대적으로 높은 강도를 가지고 있으며, 부식, 산화에도 강하기 때문에, 세라믹 박막은 기판이나 도구의 보호를 위한 코팅으로 사용된다. 또한 광전지에서 박막기술을 활용하면, 대량생산이 가능하고 효율이 높기 때문에 박막 광전지에 활용할 수 있는 물질에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.

키워드

Sputtering,   Plasma,   Sputtering 원리 및 특징,   Sputtering 장단점,   Sputtering 종류,   Sputtering M/C