|
반도체 산업 및 반도체 재료 산업의 실태와 전망, 데이콤 산업연구소,1998,pp.117 단결정 성장공정
연마공정
Epitaxial 공정
노광공정
박막형성공정
현상액도포공정
노광공정
에칭공정
Resist 제거공정
확산공정
배선공정
|
- 페이지 41페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2004.05.01
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
도핑하게 되면 공핍층이 좁아져 터널링 현상이 발생.
④ Threshold voltage 조절: 반도체 소자마다 문턱전압 값을 조절할 수 있다. 1. 반도체 소자 및 IC 개요
2. 웨이퍼 및 마스크 제조
3. FAB 공정
4. PHOTO, ETCH 공정
5. Doping 공정
|
- 페이지 19페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2020.04.16
- 파일종류 워드(doc)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
●에칭이란?
기판에 회로 패턴을 만들어주기 위해 화공약품이나 부식성 가스를 이용해 필요 없는 부분을 선택적으로 없애는 과정
●등방성에칭
일차적으로 반도체 물질들을 산화시킨 후 그 산화물을 식각하는 방법
●이방성에칭
결정
|
- 페이지 17페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2010.02.02
- 파일종류 피피티(ppt)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
반도체 레이저 다이오드개발현황,서상희,김진상,임성울 한국과학기술연구원 정보전자연구부, 1993.9.10
산화물반도체의 전기적 특성에 미치는 열처리 효과, 김용운 세경대학 전기전자계열
유기반도체에 대한 연구 논문, 박진호, 영남대학교 응
|
- 페이지 11페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2005.10.03
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
반도체 CMP SLURRY 설명
시장분석
화학적 기계적 연마(CMP) 슬러리 조성에 사용되는 연마 재료의 특성
CMP 공정은 화학적(Chemical) 연마와 기계적(Mechanical) 연마
CMP 장비 및 공정 개략도
CMP 슬러리란
CMP 장비구성
CMP Consumables Market
Slurry 시장현
|
- 페이지 15페이지
- 가격 35,000원
- 등록일 2022.06.30
- 파일종류 피피티(ppt)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|