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chemical vapor deposition)
2) 물리 기상증착 (PVD : physical vapor deposition)
3) 원자층 화학증착 (ALCVD : atomic layer chemical vapor deposition)
4) 전기도금 (EP : electroplating)
2. 화학 기상 증착 (CVD)
2. 화학 기상 증착 (CVD)
분류기준 : 반응
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케미컬, 2005
[8] 김상훈, ‘Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition’, 전북대학교, 2008
참 고 사 이 트
[9] http://blog.naver.com/ycin6306/90021955004
[10] http://blog.naver.com/ungoni?Redirect=Log&logNo=140021821478
[11] http://blog.naver.com/evagrn?Redirect=Log&logNo=20003854419
[12] http://cafe.
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deposition
Good economy and process control
A great variety of chemical compositions
High step coverage
Selective deposition
AdvantageS of CVD
Classification of CVD
Thermal(conventional) CVD
- Operating Temp. : 800 1200 ℃
- Mass Products
- High Purity Thin Film
- influenced by various fac
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rect=Log&logNo=10096589628
-http://ko.wikipedia.org/wiki/%EC%8A%A4%ED%8D%BC%ED%84%B0
-http://blog.naver.com/PostView.nhn?blogId=starhope61&logNo=120143912904
-글로방전 [─放電, glow discharge ] | 네이버 백과사전 1. CVD (Chemical Vapor Deposition)
2. Sputtering
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CVD chemical vapor deposition 화학시상증착 공정
화학기상증착 공정이란?
◉ 화학 반응을 수반하는 증착기술로서 부도체, 반도체, 그리고 도체 박막의 증착에 있어 모두 사용될 수 있는 기술
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