Physical Vapor Deposition
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소개글

Physical Vapor Deposition에 대한 보고서 자료입니다.

목차

PVD의 정의
PVD의 종류
PVD의 원리
PVD의 과정
증착층의 구조적 영역
PVD의 장점
금형에서 PVD의 장점
PVD의 단점

본문내용

PVD의 정의
진공상태에서 화학반응을 유발시키지 않고 증착 시키려고 하는 물질을 Vaporized Atomic 형태로 Thin Film을 형성 하는 것을 의미.
PVD의 종류
스퍼터링, 전자빔증착법, 열증착법, 레이저분자빔증착법, 펄스레이저증착법등.
→ 증착 시키려는 물질이 기판에 증착 될 때 기체 상태가 고체상태로 바뀌는 과정이 물리적인 변화이기 때문.

키워드

PVD,   물리증착,   원리,   종류,   과정
  • 가격1,000
  • 페이지수9페이지
  • 등록일2006.07.28
  • 저작시기2006.7
  • 파일형식파워포인트(ppt)
  • 자료번호#357150
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