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재료 공학 등 많은 전공들을 필요로 한다. 특히 화학공학전공이 필요한 이유는 무슨 재료를 쓰며 어떤 프로세스를 사용해야 하는지 또한 반도체 제조 공정 중 CVD, Sputtering, Thermal Evaporation, Sol-Gel Spin Coating, Etching 과 같이 화학적 공정이 들어가
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함, 소자번호와 날짜가 표시됨 Fabrication process of CMOS
(CMOS 제작공정)
■ CMOS
■ 웨이퍼제작
■ CMOS 집적회로 제작에 사용되는 공정
■ CMOS 집적회로 제작
■ BiCMOS 집적회로 제작(향상된성능)
■ 마무리 공정 및 테스트표시됨
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박막의 광학적 구조적 전기적 특성 분석 /
/ 울산대 대학원 / 안진수 / 2003 / p4~7(스핀코팅법),p5(졸-겔 분류그림),
8(발광재료 조사)
③액상 화학공정을 이용한 메조포어 SiO 및 YBCO 필름의 제도와 응용에 관한 연구 /창원대 대학원 / 허순영 / 2005 / p
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재료, 반도체 소자 제조, 환경분야 등에서 plasma의 이용이 점점 더 늘어날 전망으로 있으며, 이에 따라 다양한 plasma의 생성 및 제어, 측정 기술, plasma의 물성을 측정하는 plasma 진단법의 개발이 이루어질 것으로 전망된다. Ⅰ. Plasma
1. Plasma
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박막을 얻기는 힘들 것이다.
5. 참조
1. http://en.wikipedia.org/wiki/Sputtering
2. http://www.iktm.com/
3. http://www.pvd-coatings.co.uk
4. http://www.msi-pse.com/magnetron_sputtering.htm
5. 유도결합 플라즈마 화학 기상 증착법을 이용한 TiB₂박막의 저온 증착 및 접착력 향상
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