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재료 공학 등 많은 전공들을 필요로 한다. 특히 화학공학전공이 필요한 이유는 무슨 재료를 쓰며 어떤 프로세스를 사용해야 하는지 또한 반도체 제조 공정 중 CVD, Sputtering, Thermal Evaporation, Sol-Gel Spin Coating, Etching 과 같이 화학적 공정이 들어가
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PR을 제거하기 위해 developer에 기판을 담금
⑥ DI water(탈 이온수)로 세척하여 developer를 완전히 제거
⑦ 세척 후 Hot plate에서 hard baking(120℃, 10분)하여 pin hole 제거 및 기판과의
접착력 높임
⑧ ITO etchant에 dipping하여 경과를 보면서 ITO를 식각
⑨ 식
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함, 소자번호와 날짜가 표시됨 Fabrication process of CMOS
(CMOS 제작공정)
■ CMOS
■ 웨이퍼제작
■ CMOS 집적회로 제작에 사용되는 공정
■ CMOS 집적회로 제작
■ BiCMOS 집적회로 제작(향상된성능)
■ 마무리 공정 및 테스트표시됨
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박막의 광학적 구조적 전기적 특성 분석 /
/ 울산대 대학원 / 안진수 / 2003 / p4~7(스핀코팅법),p5(졸-겔 분류그림),
8(발광재료 조사)
③액상 화학공정을 이용한 메조포어 SiO 및 YBCO 필름의 제도와 응용에 관한 연구 /창원대 대학원 / 허순영 / 2005 / p
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및 향후과제
1) 몇가지 문제점 및 해결책
(1) 효율을 향상시키기 위해
(2) 선택성을 향상시키는 방법
(3) 효과를 지속시키는 방법
2) 향후과제
(1) 수처리에의 응용
(2) 상세한 반응 기구의 연구
(3)
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