|
CVD(화학적 증착법)
화학적 증착법의 종류
1)열분해법
2)수소 환원법
3)화학 반응법
4)광화학 반응법
열CVD
1)열 CVD의 장점
2)열 CVD의 단점
3)열 CVD 방식
플라즈마 CVD
대표적인 플라즈마 CVD 특징과 장치
1.고주파 플라즈마 CVD
|
|
|
증착법(CVD)은 가장 널리, 여러 물질에 걸쳐 사용된다. 열적 CVD는 집적회로 생산에 있어서 에피택셜한 성장의 기본 기술로 이용되고 있다. 개량된 열적 CVD는 보다 낮은 온도에서 증착할 수 있도록 화학 반응에 필요한 에너지를 플라즈마와 광
|
|
|
증착하는 주요한 경제적 수단이 되었다.
화학기상증착법
화학기상증착법에서는 하나 혹은 그 이상의 기체종류들로부터 박막을 증착한다. 화합물이 박막형성을 위해 분해되기도 하고 기체상태의 원소들이 반응하여 박막을 만들기도 한다. CVD
|
|
|
CVD법, 마이크로파 플라즈마 CVD법, 열 CVD법 등이 활발하게 연구되고 있다.
5. 나노태양전지
5.1나노태양전지의 정의 및 특징
원자나 분자를 마음대로 조작하는 나노기술을 적용해 태양전지의 단점을 극복할 수 있는 새로운 태양전지이다.
박막
|
|
|
CVD법, 마이크로파 플라즈마 CVD법, 열 CVD법 등이 활발하게 연구되고 있다.
5. 나노태양전지
5.1나노태양전지의 정의 및 특징
원자나 분자를 마음대로 조작하는 나노기술을 적용해 태양전지의 단점을 극복할 수 있는 새로운 태양전지이다.
박막
|
|
 |
제 3 장. 실험 방법 30
제 1 절 기판 및 시약 준비 30
제 2 절 OTS 증착 31
제 3 절 MIS 커패시터의 제작 34
제 4 장. 실험 결과 38
제 1 절 누설전류 특성 38
제 2 절 펜타센 증착 표면 43
제 5 장. 결 론 51
참고문헌 52
Abstract 55
|
|
|
증착하였다.
1-2. 전기적 특성 평가 (I-V)
NiO 박막의 스위칭 특성을 보기 위해서 혼합가스의 산소비를 0%~6% 로 증착하였다. 이렇게 증착한 박막을 400~700℃ 각각 열처리를 한 후 I-V를 측정하였다. NiO의 밴드갭이 3.7~3.9eV 로 거의 부도체와 같다. 특
|
|
 |
보시고는)고체확산론을 배웠는데 고체확산론에서 고체확산 방식을 말해라
Si의 결정구조는 어떻게 되는가?
대학원 입학후 무엇을 하고 싶은가?
(박막증착을 하고 싶다고 대답함)증착방법에는 어떤 방법이 있는가?
Mobility가 무엇인가?
|
|
 |
박막 증착 중 예기치 않은 파티클 발생을 책임지고 해결한 경험이 있습니다. 과제 평가 항목에
수율이 포함되어 있었기 때문에, 화학 기상 증착 과정에서 갑작스러운 파티클 발생은 치명적으로 다가왔습니다.
3.LG화학에서 이루고 싶은 나만
|
|
 |
CVD 공정 연구 성과 달성]
학부 연구생으로 활동하며 CVD 방식을 이용한 '단층 MoS2 박막 합성 최적화' 연구에 참여했습니다. 이 과정에서 MoS2 박막 합성 실험과 OM 및 AFM 분석을 통해 공정 매개변수에 대한 광범위한 데이터를 수집했습니다. 연구
|
|
 |
CVD나 스퍼터링에 대한 지식을 배우고자 현재 박막재료 강의를 수강 중에 있습니다. 신소재공학 전공지식을 바탕으로 각 공정에서 수율 향상을 이끌어 내겠습니다.
둘째, 효율성 향상뿐만 아니라 제품의 불량을 줄일 수 있는 분석력을 가지고
|
|
 |
박막 / 00 공정에대해 아는 것을 모두 말해봐라” 였고 반도체 공정 CVD,ALD 두가지 차이점과 트레이트오프관계 그리고 어떤 것이 반도체장비사이 좀더 중점적으로 발전시켜나가고 있는가에 대해 말씀드렸더니 더 이상 전공에 관한 질문은 들어
|
|
메뉴펼치기
