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Layers
AlAs(희생층)과 Wafer 또는 Active layer 사이 존재
HF로 부터 Wafer(GaAs substrate) 보호 역할 1. 박막형 Ⅲ-Ⅴ족 태양전지 제작
1) Thin-Film Solar Cell 주요 공정
2) 재사용 wafer vs. New wafer 성능 비교
2. 실습결과 정리(Single Junction, Triple Junction)
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제조공정
단위공정
관련재료
비고
FAB 재료
웨이퍼 제조공정
단결정 성장공정
연마공정
Epitaxial 공정
기판재료
연마재
반도체용 가스
Si, GaAs
고순도 가스
회로원판제조공정
노광공정
Photomask
웨이퍼 처리공정
박막형성공정
현상액도포공정
노
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(iodine)법이 등장햇고, 1940년대부터는 고순도 게르마늄, 실리콘의 제조법 등의 반도체공업에 깊은 관계를 갖게 되었고, 1970년대에는 반도체집적기술의 발달과 더불어 고순도, 고품질의 박막형성에 없어서는 안 될 기술로 되었다. 없음
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공정이 아닌 균일도가 뛰어난 새로운 공정을 개발하는 것에 초점이 맞추어 지고 있다.
참고자료
김정희, OLED 제작 및 특성분석, 아주대 대학원 논문, 2004.
김종환 외, 고분자 기판위에 다층 구조의 박막형 보호층을 적용한 투습률 향상, 전기
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제조공정 ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ6
3.4 은나노의 향균원리 및 기능 ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ 6
4. 탄소나노튜브 ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ 6
4.1 탄소나노튜브란? ㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍㆍ 6
4.2 탄소나노튜브의 구조
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