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처음으로 사용
1969년 처음으로 실리콘 게이트 MOS IC사용
1970년 처음으로 MOS를 사용한 계산기 chip이 발표
1977년 고성능 5V MOS 기술이 발표 반도체 제조 공정의 역사
현재 반도체 제조공정 수준
반도체 제작 공정
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반도체에 빛을 쪼이면 전류가 잘 통하며 전기저항이 작아 지는데 , 이것이 바로 광전효과다.
셋째, 반도체에 미량의 불순물을 첨가하면 반도체는 그 불순물의 종류와 농도에 따라 전류의 흐름을 변화시킨다. 반도체 제조공정에서 불순물을
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반도체의 종류
①불순물양에 따라
②다이오드
③트랜지스터
④I.C(Integrated Circuit : 집적회로)
4. 반도체의 제조공정
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반도체 특강 자료 (삼성전자)
(4) 이화여자 대학교 전자공학과 PRAM PPT 자료
(5) 고광석 (상변화 기술분석)
(6) 상변화 메모리 소자설계용 요소기술 개발에 관한 연구 ( 과학기술부 )
(7) 비휘발성 메모리 소자 기술 동향 (KIST 허운행)
9 1.서론
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반도체를 구성하는 트랜지스터 스케일과 S / W의 프로그램 사이즈 모두를 의미하는 SoC 규모의 급증으로 H W / S W의 균형 설계가 필요
○ 엠베디드(Embedded) S/W의 비중이 증가하고 있으며, 반도체 부가가치에 큰 영향력을 끼치고 있음.
○ 제조공정
반도체 메모리, 기술 비메모리, 반도체산업 - 정의, 범위, 관련기업, 주요 생산품, 시장구조, 유망분야, 국내외 기술개발동향, 기술발전전,
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