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PVD 목적 및 역할
PVD 종류
용어 정리
①PVD(정의)
②Evaporation(정의)
③Deposition(정의)
④Vaccum(정의,목적)
⑤Plasma(정의,설명,특징)
주요 펌프 설명
①Ratary Pump 작동 원리(분해 사진)
②Diffusion Pump 작동 원리(분해 사진)
③TMP 작동 원리
Sputtering
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PVD와 CVD 모두 반도체 공정이나 기타 산업에 많이 이용되는데 대개 PVD는 고품질의 박막이나 나노구조를 만들 때 쓰이지만 진공이 필요하므로 장비가 고가이며 증착속도가 느리고 CVD는 넓은 면적에 빠른 속도로 박막이나 나노구조를 증착시킬
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이용 기술
태양 전지의 역사
태양 전지의 장점
태양 전지의 단점
태양 전지의 이해
태양 전지의 원리
태양 전지의 종류
태양 전지의 핵심 기술
태양 전지의 이용 분야
전세계 및 우리나라 동향/현황
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서론
2. 본론
2.1 CVD 공정의 원리
2.2 CVD 공정의 특징 및 장점
2.3 CVD 공정의 분류
2.4 CVD 공정의 세부 응용 분야
2.5 CVD 공정의 최신동향
3. 결론
4. 그림 및 표
5. 참고 문헌
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터보 분자 펌프
9) 확산펌프
10) 이젝타 펌프
11) 흡착펌프
12) 이온펌프
13) 게터펌프
14) 승화펌프
15) 저온 냉각 펌프
● PVD(Physical Vapor Deposition)
1. 코팅방법
● CVD(Chemical Vapor Deposition)
• CVD와 PVD의 장단점
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