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방법
3.1 합금설계
3.2 Polishing
3.3 인장 시험 시편 제작
3.4 EPMA(Electron Probe Micro Analyzer)
3.5 인장 시험
4. 실험 및 고찰
4.1 EPMA(Electron Probe Micro Analyzer)를 통한 미세구조 관찰
4.2 인장 시험을 통한 최대 인장강도 및 ductility 비교
5. 참고문헌
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비교표
2-4 나노기술의 산업기술에 미치는 파급효과 분석
3 나노입자 분석 및 선정
3-1 나노입자의 모양
3-2 나노입자의 크기 및 물성치
4. 실험장치 설계 및 방법
4-1 실험장치 이론 및 설계
4-2. 실험장치 사진
4-3 실험방법
5. 실험결
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micro-structures for large area applications generated by holography\", SPIE Vol.4438, 2001.
2. Oki Gunawan, \"Development of a Laser Holographic Interference Lithography system\", SPIE Vol.3896, 1999.
3. Gigli G, Rinaldi R, Turco C, Visconti P and Cingolani R, \"Holographic nanopatterning of the or
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마이크로프로세서, 한빛 미디어,2006 p270
[2] 정상봉, 전경일, 홍승홍, 한기수, 마이크로프로세서8051응용로봇제작, 세화 출판사, 2006, pp453~461
[3] Atmel AT89S52 Data Sheet
[4]http://www.servocity.com/html/hs-81_micro.html, How do servos work
[5] http://www.atmel.com/
[6] 권준
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Electronic Environment: Focus on the Internet, DSTI/ICCP/Reg(97) 6/Final.
Ruiz, Blanca R.(1997), Privacy in Telecommunication, hague : Kluwer LAW International.
3. 인터넷 주소
www.etimesi.co.kr (전자신문)
www.etri.re.kr (한국전자통신연구원)
www.kisa.or.kr (정보보호센터)
www.kisdi.re.kr (정보
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