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기술은 포토레지스트 도포에서 시작되어 포토레지스트제거로 끝나는 일련의 공정이지만, 그 과정의 각 스텝은 모두 상호간에 영향을 주고받기 때문에 개별적으로 취급할 수 없다.
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집
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기술은 포토레지스트 도포에서 시작되어 포토레지스트제거로 끝나는 일련의 공정이지만, 그 과정의 각 스텝은 모두 상호간에 영향을 주고받기 때문에 개별적으로 취급할 수 없다.
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
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다.
<그림 1-20.1 PLD 기본원리>
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 없음
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공정기술(개정판), 황호정 저, 생능출판사
신소재공학, 서영섭·백승호·이철영 공저, 기전연구사
태양광 시장의 실태와 전망, 데이코산업연구소, 진한M&B
http://www.green-energy.co.kr/
http://www.samsungsdi.co.kr/
http://www.epnc.co.kr/article/view.asp?article_idx=
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생산전략
(1) 애플사
(2) 모토로라 그룹
Ⅳ. IT강국 한국의 생산전략의 분석
1. 한국 IT 산업의 현황
(1) 국내 설비투자 추이
(2) 국내 제조업체의 해외투자 추이
(3) 기술개발동향
(4) 시장점유율 추이
2. 한국
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공정기술’, 생능출판사, 1999
[5] 윤현민, 이형기, '반도체 공학', 복두출판사, 1995
[6] 이종덕, '실리콘집적회로 공정기술', 대영사, 1997
[7] 신현국, 'CVD/ALD 재료 기술 동향', (주)유피 케미컬, 2005
[8] 김상훈, ‘Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition’, 전
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공정성 지각에 미치는 영향에 관한 연구, 서울과학기술대학교
권선행(2010), 인사관리의 특수성을 고려한 인사평가시스템 데이터베이스 설계에 관한 연구, 명지대학교
이은진(2009), 성과중심 인사평가제도의 성과에 관한 연구, 성균관대학교
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생산에 적합한 형태로써 제조공정가를 상용화 단계까지 낮출 수는 있지만, 상대적으로 단위전지의 대면적화가 어렵고 반응가스의 밀봉이 어렵기 때문에 필수적인 구성부품으로 분리판이 필요하기 때문에 이에 대한 기술의 확보가 필요하다.
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기술체계
2) 개발과정
2. 256K DRAM의 개발
1) 조기개발의 의미
2) 개발과정
Ⅲ. 삼성전자 반도체산업의 성공요인
Ⅳ. 삼성전자 반도체산업의 핵심역량
1. D램 설계 기술
2. 생산능력(양산)
Ⅴ. 삼성전자 반도체산업의 기술흡수
Ⅵ. 삼성
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3) 나노산업의 혁신 사례
(1) 나노소자산업
(2) 나노소재산업
(3) 나노바이오산업
(4) 나노에너지, 환경산업
(5) 나노공정, 측정, 장비산업
4) 슘페터의 가설을 통해 본 나노산업의 혁신 사례
3. 시사점
Ⅲ. 결론
참고문헌
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