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소프트 리소그래피
소프트 리소그래피란 ?
탄성 중합체로 만들어진 스탬프를 이용하여 30nm부터 100μm
사이의 패턴 또는 구조물을 생성하는 공정
종류
나노 각인 리소그래피(NIL, NanoImprint Lithography)
마이크로 접촉 인쇄 (μCP, MicroContact
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토리소그래피 과정에서 자주 행하는 공정인데, 크게 PR코팅 후의 소프트 베이킹, 노광 후의 post exposure baking, 현상 후의 하드 베이킹이 있다.
3.결론
지금까지 살펴본 포토리소그래피는 기계부품과 전자부품의 케미칼 에칭가공, 프린트기판 제
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문제로 사용하는데 한계가 있다.
따라서 이와 더불어 더욱 정교하고 미세하게 마스크에 패턴을 만드는 기술의 개발 또한 진행되고 있다. 1. 서론
2. 본론
1) Photoresist coat(PR코팅)
2) Soft Bake
3) Photo exposure
4)Develop
5)Hard bake
3.결론
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리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4) 리소그래피 방법
① Photoresist coat (PR 코팅)
② Soft Bake(소프트 베이크)
③ Photo exposure(노광)
④ Develop(현상)
⑤ Hard bake(하드 베이크)
5) 향후의
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소프트 리소그래피(마이크로콘택트 프린트, 나노 임플린트 등), 자기조립, 로봇조립, 템플리트 성장
왜 나노크기 구조물이 필요한가?(1)
STS의 관계 -상호보완
왜 나노크기 구조물이 필요한가? (2)
나노과학에서 나노공학으로 나아가기 위해
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6_Flexible Display (고려대학교 권재홍, 정진
욱, 이영훈, 이원희) 1. 서 론
2. 이 론
1) PDMS (Polydimethylsiloxane)
2) Nano Transfer Printing
3) Decal Tranfer Lithography (DTL)
4) ITO (Indium Tin Oxide)
3. 실험방법
4. 결과 및 고찰
5. 결 론
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