|
박막형성 메커니즘은
1. 플라스마에서 이온과 라디칼 형성 1. 화학기상증착(CVD)법
1) 熱 CVD
2) 플라스마 CVD
3) 光 CVD
4) MO-CVD
5) 레이저 CVD
|
|
|
박막의 제조방법
1-1)음극 전해 성막법
1-2)무전기 또는 무전기 성막법
1-3)양극 산화법
1-4)액상 에피탁시법
1-5)Langmuir-Blodgett 막 형성법
1-6)흡착방법
1-7)CVD(화학적 증착법)
화학적 증착법의 종류
1)열분해법
2)수소 환원법
3)화학 반
|
|
|
증착방법 및 증착 장치
- 저주파 스퍼터링 장치를 이용하여 제조되는 투명 전극용 산화인듐주석 박막 및 그 제조방법
- MOD법에 의한 ITO 투명전도성 박막의 제조
- 화학기상증착법에 의한 ＩＴＯ박막 제조방법
- 원자층 증착법에 의한
|
|
|
박막증착, 표면/계면 제어, 초정밀 식각등의 제반 기반기술의 확립과 관련 평가.분석기술 개발
'02∼'06
(5년이내)
후보
4. 추진체계
□ 기관별 역할분담
구 분
기 능 및 역 할
나노기술
전문위원회
○나노기술종합발전 연도별 시행계획 수립.조
|
|
|
박막 두께조절 뿐만 아니라 다성분계 박막에 있어서 조성 조절이 용이하다는 장점이 있다. [7]
3. 결론
박막 증착하는 방법에는 크게 물리 기상 증착법과 화학 기상 증착법, 그리고 분자 빔 결정법(Molecular Beam Epitaxy) 등이 있는데, 위에서는 CVD
|
|
 |
법 ‥‥‥‥‥·‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥4
(1) 초저압 화학기상 증착법
(2) 열처리에 의한 재결정법
(3) 직접 증착법
(4) 엑시머 레이저 열처리법
ELA 방법에 의한 다결정 실리콘‥‥‥‥‥‥
|
|
|
제 3 장. 실험 방법 30
제 1 절 기판 및 시약 준비 30
제 2 절 OTS 증착 31
제 3 절 MIS 커패시터의 제작 34
제 4 장. 실험 결과 38
제 1 절 누설전류 특성 38
제 2 절 펜타센 증착 표면 43
제 5 장. 결 론 51
참고문헌 52
Abstract 55
|
|
 |
박막증착법에서 아이디어를 얻어 연구실 내 감압장치를 활용하고 해결할 수 있었습니다. 이는 마이크로 단위 유체에서 기포를 제거하기 위해 상대적 소수성 성질을 활용할 수 있었던 성공 요인으로 뽑혔습니다. 1. 삼성전자를 지원한 이
|
|
 |
박막 증착 중 예기치 않은 파티클 발생을 책임지고 해결한 경험이 있습니다. 과제 평가 항목에
수율이 포함되어 있었기 때문에, 화학 기상 증착 과정에서 갑작스러운 파티클 발생은 치명적으로 다가왔습니다.
3.LG화학에서 이루고 싶은 나만
|
|
|
있는 다공성 전극, 전도성 고분자, 금속-유기 골격체(MOF) 기반 소재의 합성과 응용 연구를 수행토록 하겠습니다. 이를 위해 습식 화학 합성, 전기화학적 도금, 스프레이 열분해, 원자층 증착(ALD) 등의 기법을 활용하여 다양한 나노구조 소재를
|
|
 |
박막이란 무엇인가요?
4
신뢰성연구의 중요성?
5
공정에 대한 흐름도는 어떠한가?
6
열역학 제1법칙에 설명하여라.
7
화학물질 유출사고에 대해서 아는거 얘기하고 왜 그런사고가 일어났는지?
8
온실가스거래제도에 관해서 아는가?
9
위험물이
|
|
메뉴펼치기
