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증착을 위해서는 진공기(Chamber)와 증착될 물질(Target)과 증착시킬 물질(Substrate) 그리고, target을 가열할 히터(Tungsten Coil)가 구성요소
알파스텝
WAFER 표면 위의 단 차가 있는 박막의 두께(수Å 이상) 및 Step profile을 측정하기 위하여 개발한 장비,
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대한 균일성 및 재현성이 양호하여야 하며 파괴전압과 결함상태, 산화 막 내의 다양한 이온밀도(charge density) 등이 조사되어야 한다.
산화 막의 성장방법에는 여자가지가 있는데 온도로서 구분 지어진다.
200도 이하 - 양극 산화- SiO2 진공증착-
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증착을 얻을 수 있지만 우리가 실험 시 Mask를 고정시킬 때 테이프를 사용하면서 Sputter과정 중 Al이온들이 기판과 Mask사이에 있는 틈으로 들어가 증착되어서 아래와 같은 곡선을 나타내게 되었다.
6. 조건별 기판 위 증착 두께 비교 및 실험 결과
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및 소재 분야에서 열플라즈마의 이용은 기계부품 및 장비 공작가공, 보호피막 및 고기능성 표면개질, 신소재 생산 등에 주로 사용되어 절단 용접 및 표면강화, 용사 코팅, 열플라즈마 합성, 열플라즈마 화학증착, 제철제련 등이 이에 속한다.
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스텝
5) 비니즈왈츠
2. 라틴댄스
1) 룸바
2) 삼바
3) 파소도블레
4) 자이브
5) 차차차
Ⅴ. 댄스스포츠의 스텝
1. Foxtrot
1) magic step
2) change step
3) box step
4) left box turn
5) magic left turn
2. Waltz
1) Basic waltz step
2) Balance step
3) Box step
4) Left
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