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CVD법에 의한 H막의 특성은 플라즈마법과 동등한 수준이고 성막속도는 보통 램프광을 이용한 광 CVD법보다는 빠르지만 대면적화가 곤란하여 이것을 고려한 레이저광원이나 장치구성 개발이 필요하다. 1.실험목적 2.이론적배경 3.장치에
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  • 등록일 2009.12.09
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증착법(laser vaporization) ③ 플라즈마 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) ④ 열화학 기상증착법(Thermal Chemical Vapor Deposition) ⑤ 기상합성법(Vapor phase growth) 4. 탄소나노튜브의 전계전자방출 특성 5. 탄소나노튜브의 응용기술
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  • 등록일 2004.08.16
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기상 관측 장치 전원 전세계 및 우리나라 동향/현황 일본 Sharp 2006년 말에 600MWp로 증설 - 2004년도 매출액 약 1조 1700억원 달성 (전체 그룹 매출 8%) 독일 Q-cell 2005년 166MWp 생산, 2006년 연산 350MWp 규모로 증설 중국 Suntech 2005년 82 MWp 생산, 2006년 연
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  • 등록일 2013.07.05
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CVD법에 의한 박막 형성은 PVD법에 비하여 고속입자의 기여가 적기 때문에 기판 표면의 손상이 적은 잇점 이 있으므로 주목되고 있으며, 국제적으로 기술 개발을 서두르고 있는 분야이기도 하다. CVD(화학기상증착)법은 기체상태의 화합물을 가
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  • 등록일 2013.11.18
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CVD법에 의한 박막 형성은 PVD법에 비하여 고속입자의 기여가 적기 때문에 기판 표면의 손상이 적은 잇점 이 있으므로 주목되고 있으며, 국제적으로 기술 개발을 서두르고 있는 분야이기도 하다. CVD(화학기상증착)법은 기체상태의 화합물을 가
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  • 등록일 2013.12.06
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논문 7건

제 3 장. 실험 방법 30 제 1 절 기판 및 시약 준비 30 제 2 절 OTS 증착 31 제 3 절 MIS 커패시터의 제작 34 제 4 장. 실험 결과 38 제 1 절 누설전류 특성 38 제 2 절 펜타센 증착 표면 43 제 5 장. 결 론 51 참고문헌 52 Abstract 55
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  • 발행일 2008.03.12
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실험 결과 및 분석 대부분의 시료에서 ReRAM의 특성이 보지는 못하였다. 그러나 혼합기체의 대한 산소비율 0%의 600℃ 열처리 상태의 소자의 경우, ReRAM의 특성을 매우 잘 나타내었다. 그래프 1~4은 각각의 상태의 I-V와 전체의 I-V를 나타내어졌다.
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  • 발행일 2009.06.15
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  • 저자
6.2 단백질(Proteins) ------------------------------- 34 6.3 핵 산 --------------------------------------- 39 Ⅲ. Chitosan을 혼입한 spange제조 실험 ------------------ 45 Ⅳ. 결 론 ------------------------------------------47 Ⅴ. 참고 문헌 -------------------------------------49
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  • 발행일 2010.02.02
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  • 저자
영향 2.3 점도 3. 실험방법 3.1 실험재료 3.2 실험 방법 3.2.1 염의 종류와 농도에 따른 W/O에멀젼의제조 3.3 W/O에멀젼의 물성측정 4. 결과 및 고찰 4.1 W/O에멀젼의 점도 4.1.1염의종류와 농도에 따른 점도변화 5. 결론 6. 참고문헌
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  • 발행일 2010.11.24
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  • 저자
실험조건 Anaerobic Fe(0); <20mesh, <100mesh, 2g, 1g, 0.5g Solvent;Acetonitril:H2O= 6:4 Concentration of endosulphane: 20ppm, 10ppm Analysis: HPLC(Acetonitril:H2O= 7:3) Fe(0) 의 탈염소화 반응 엔도설판 실험조건 Fe(0) 의 엔도설판 제거반응 (100 mesh Fe(0) 2g, Endosulphane
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  • 발행일 2010.01.20
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취업자료 56건

실험 설계 및 분석 보고서 작성에 있어 실무의 퀄리티를 체득하겠습니다. 이후에는 독립적으로 실험을 설계하고 결과를 제안할 수 있는 단계로 성장하겠습니다. 2025 동진쎄미켐 연구개발_반도체 CVD.ALD 박막 증착 공정 및 Precursor 개발 자기
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  • 등록일 2025.06.20
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  • 직종구분 일반사무직
실험과 계산을 유기적으로 연계하여 단순히 개별 데이터를 나열하는 데 그치지 않고 기작적 통찰과 공정 최적화 방안을 도출하는 연구를 수행하겠습니다. 특히나 머신러닝 기반 데이터 분석 기법을 도입하여, 합성 조건-구조-성능 간 상관관
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  • 등록일 2025.07.07
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  • 직종구분 기타
기상증착장비(CVD) 개발을 서둘러 기존 트랙장비·매엽식 세정장비(SWP) 등과 함께 전공정 장비 분야를 확대할 계획을 가지고 있습니다. 저는 부가가치가 높은 주요 전공정 장비를 앞세워 시장을 개척하고 반도체 장비를 설계하겠습니다. 또 핵
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  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
적화를 수행하였습니다. 실험을 통해 박막 증착 공정에서의 온도 변화가 소자의 이동도 및 신뢰성에 미치는 영향을 분석하였으며, AI 기반의 데이터 분석 기법을 적용하여 최적의 공정 변수를 도출하였습니다. 이를 통해 기존 대비 이동도를 3
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  • 등록일 2025.03.14
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  • 직종구분 기타
증착 공정 최적화 연구에서 반복적인 실험 실패가 있었습니다. 변수 설정과 장비 상태를 세밀히 점검하고, 선배와 전문가 조언을 받아 데이터 분석 방법을 개선해 문제점을 찾아냈습니다. 끈기와 체계적 접근으로 결과를 도출하며 실패를 극
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  • 등록일 2025.07.15
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  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
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