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함, 소자번호와 날짜가 표시됨 Fabrication process of CMOS
(CMOS 제작공정)
■ CMOS
■ 웨이퍼제작
■ CMOS 집적회로 제작에 사용되는 공정
■ CMOS 집적회로 제작
■ BiCMOS 집적회로 제작(향상된성능)
■ 마무리 공정 및 테스트표시됨
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of Porous Ceramics Depending on Water Content of the Water Glass and Heat Treatment Temperature(in Korean),” J. Kor. Ceram. Soc., 42 [10] 691-7 (2005).
6. Fujiu, “Processing and Properties of Cellular Silica Synthesized by Foaming Sol-Gels,” J. Am. Ceram. Soc., 73 [1] 85-92 (1990).
7. J. S. Woyansky
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장비의 사용목적과 쓰임을 안다
각 공정단계를 간편화 정밀화 함으로써 더욱 더 좋은 Quality 를 갖는 반도체 소자를 만들 수 있도록 연구 1. Objective
2. LED?
3. Theory Explanation
4. Fabrication process of LED
5. Equipment
6. Summary
7. Reference
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of coatings’, Progress in Materials
Science, 2003
[3] Stanley Middleman, K.Hochberg , 'Process Engineering Analysis in Semiconductor Device Fabrication', Mc Graw-Hill,Inc., 1995
[4] 황호정, ‘반도체 공정기술’, 생능출판사, 1999
[5] 윤현민, 이형기, '반도체 공학', 복두출판사, 1995
[6
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of Soft Magnetic Materials 96", Gorham/Intertech
Consulting, San Francisco, U.S.A(1996)
FIGURE CAPTION
Fig. 1 SEM micrographs showing the law Fe powder
Fig. 2 SEM micrograph showing the dusts and EDX spectrum from those
Fig. 3 Schematic flows indicating the fabrication process of sintered cores
Fig.
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