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PAPVD법에서 압력은 3∼5mtorr 범위로 유지하고 기판을 움직여 코팅을 균일하게 하려고 노력한다.
6. 응용
* 절단용 공구강에 있어 PAPVD와 CVD코팅의 비교
열적 평형에 의해 생성된 CVD 티타늄질화물은 전형적으로 0.5 m 정도 크기의 고경각입계를 가
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물리적 증착에 비해 적게 들고 여러가지 종류의 원소및 화합물의 증착이 가능하며 공정조건의 제어범위가 매우 넓어서 다양한 특성의 박막을 쉽게 얻을 수 있을 뿐만 아니라 좋은 step coverage를 갖는 등의 특성이 있기 때문이다.
※이론적 배
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물리적 증착에 비해 적게 들고 여러가지 종류의 원소및 화합물의 증착이 가능하며 공정조건의 제어범위가 매우 넓어서 다양한 특성의 박막을 쉽게 얻을 수 있을 뿐만 아니라 좋은 step coverage를 갖는 등의 특성이 있기 때문이다. 없음
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Deposition rate vs. flow hysteresis behaviour for TiN, deposition at a target power of 10 kW in a mixed Ar-N2 discharge
·gas flow의 적은 증가 → 증착속도의 많은 감소 → target 앞에서의 반응성 종의 빠른 부분압 증가
·입력 전류와 전압을 조정하여 target의 power를 일정하
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interaction
(1) High-energy ion/neutral particle bombardment
(2) Low-energy ion/neutral particle bombardment(〈100eV)
3. PACVD equipment requirements
4. Applications of PACVD
1) Wear resitance coating
2) Thermochemical processing
3) Deposition of mixtures and multilayer structures
5. S
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