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전자현미경의 관찰에 의하면 파단면 상에 형성된 미세한 소성변형의 딤플이 관찰되고 이로 인하여 S45C강의 파손이 연성파괴임이 입증된다.
Fig.7은 S45C강의 충격실험 후 파단면을 보여주는 것으로서 충격실험의 높은 변형속도에서 파단면에
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상에서 선명한 상을 얻기 힘들다. 주사전자현미경의 배율조정 장치는 감쇠기와 stigmator의 전류 조절로 구성되어 있으며, 감쇠기는 가속전압과 배율변화를 자동으로 보정하는 역할을 하며, 실제 배율은 최종 aperture와 시료 표면 간의 거리에 의
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된다.
Elastic Scattering (backscattered electron)전자의 속도나 에너지를 잃지 않은 채 방향만을 바꾼 전자. 전자가 시편내 원자핵과 충돌하거나 혹은 매우 가깝게 통과할 때 발생만일 backscattered electron이 전자현미경의 내부 부품을 때릴 때에도 역시 2
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om/down/semtem.htm
http://myhome.naver.com/gushin8901/text.htm#2
http://composites.hanyang.ac.kr/afm/intro/intro.htm
http://www.psia.co.kr/
http://www.pubmedcentral.gov/picrender.fcgi?tool=pmcentrez&blobtype=pdf&artid=546822 1.원자현미경과 전자현미경의 비교
2.biomolecule imaging by AFM
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전자현미경을 이용한 미세구조 관찰
1.실험목적
2.실험 준비물
3.이론적 배경
3.1 구조-물성-프로세싱의 관계
3.2 주사전자 현미경(Scanning Electron Microscope: SEM)
3.3 주사전자 현미경의 작동원리
4.실험방법
4.1시험편의 준비
4.2 SEM분석
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(ICP-MS와 보완관계로 이용)
재료, 식품, 생체시료 및 수용액시료 중의 미량원소
무기물중의 미량 희토류 원소의 정량 Ⅰ. 주사전자현미경(Scanning Electron Microscopy)
Ⅱ. X선 회절 분석기(X-Ray Diffractometer, XRD)
Ⅲ. 유도결합 플라즈마 분광기
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Electron microscopy : 주사전자현미경)
1. 구 조
2. 전자선의 발생 원리
3. SE(Secondary Electron)와 BSE(Backscattered Eletron)의 차이와 장단점
4. 가속전압과 Image와의 관계
5. EDS(Energy Dispersive X-ray Spectrometer), WDS(Wavelengths Dispersive X-ray Spectrometer)
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현미경과 제2세대인 전자현미경 다음의 제3세대 현미경으로 자리 잡아가고 있다.
②물질의 표면특성
④STM
⑤AFM
①.Contact AFM
②.Non-Contact AFM (NC-AFM)
③.Intermittent-contact AFM
⑥캔틸레버(Cantilevers)
⑦LFM
⑦FMM
⑧PDM
⑧MFM
⑨SPM의 응용분야
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한다면 세균이 어떻게 자랄지 궁금하다.
이 실험 또한 소독과 멸균에 신경써야 했다. 한 배지에서 한 세균만 자라야하기 때문에 loop를 알코올램프에 잘 멸균하고 세균을 묻혔다. 1.광학현미경
2.원자현미경
3.전자현미경
4.현미경의구조
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도를 얻을 수 있다. 1차 양극은 3~5kV의 고전압을 가하여 팁으로부터 전자를 방출하게 하고 2차 양극과 팁 사이에는 최대 30kV의 가속전압이 가해지게 된다.
5)논의 및 고찰
시편을 준비할 때 polishing 과 etching을 조심해서 하여야 한다. polishing을 너
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