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이용한 광 CVD법보다는 빠르지만 대면적화가 곤란하여 이것을 고려한 레이저광원이나 장치구성 개발이 필요하다. 1.실험목적
2.이론적배경
3.장치에 대한 원리와 방법
4.코팅과정과 반응장치.
5. 분석기구
6. CVD 기술과 종류
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공정에서 O2 GAS 를 이용한 건식 세정 및 정전기 제어에 관한 연구, 2011년, Page 40 1. 오른쪽과 같은 pattern 모양을 형성하기 위해서 어떠한 공정을 진행해야 하는가를 그림과 이론으로 설명하시오.
2. 실험 가정 및 주의사항
3. 두께 및 식각
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증착
① 물리적 기초
② 실험 기술
(3) 이온을 이용하는 방법과 음극 스퍼터링
① 2극 스퍼터링의 원리
② 음극 스퍼터링의 몇 가지 특수한 장치
③ 저압 음극 스퍼터링
④ 이온 프레이팅과 이온빔을 이용한 방법
5) 막의 두께 측정방법
6)
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박막제조법)
⑥경북대학교 무기재료공학과 박막공학연구실 (겔화 과정)
(cera.knu.ac.kr/labs/cml/data/images/sol_gel.ppt ) 1.실험목적
2.실험 이론
1)졸-겔법의 분류
2)졸의 제조
3)졸의 건조
4)Spin Coting법
3. 실험장치 및 방법
4.실험결과
1) 졸
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공정의 과정
6. 신현창, 최승철, 이재춘, 오재희, “세라믹 공정에서의 초음파 활용”, 총설 2002.
7. 편영식, 권혁홍, 아즈마 노부히데, “초음파 진동을 이용한 금형사상의 자동화 공정 연구”, 한국소성가공학회, 2002.
8. 한규억, 김대만, 조상명
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