|
가능하고 효율이 높기 때문에 박막 광전지에 활용할 수 있는 물질에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 1. Sputtering
1-1. 용어
1-2. Sputtering
1-3. Plasma
1-4. Sputtering 원리 및 특징
1-5. Sputtering 장단점
1-6. Sputtering 종류
1-7. Sputtering M/C
|
|
|
plasma-enhanced CVD, photochemical CVD , laser-induced CVD, and electron-beam assisted CVD로 분류될 수 있습니다.
. CVD와 PVD의 장단점
구 분
장 점
단 점
CVD
.코팅층의 두께가 모재의 형상에 영향을 받지 않고 전표면에 걸쳐 균일하다.
.PVD 코팅보다 모재에 대한 접
|
|
|
가능
- Gap-fill을 하는 과정에서 증착과 식각의 비율은 3:1 이상의 비율을 가지고 있으며 이러한 비율은 웨이퍼 처리량을 증가시킨다. ◈ Plasma의 원리
◈ HDPCVD의 동작 원리
◈ HDPCVD의 특징 및 장단점
◈ HDPCVD 장비 소개
◈ 결론
|
|
|
Plasma Display Panel의 역사
1927년 : F. Gray (Bell 연구소)
50´50 lines, Ne 방전 65´75 cm 크기의 극장용 플라즈마 표시기
1930년대 : CRT의 등장
1940년대 : Bacon과 Pollad의 Dekatron Tube (Alpha-numeric 표시장치)
1960년대 : Matrix형 DC-PDP
1964년 : Bitzer와 Slottow (
|
|
|
이용
(4) 특히 unbalanced magnetron이 미래의 큰 역할을 할 것으로 기대 1. Basic aspects of sputtering
2. Sputtering techniques
3. Plasma characteristic and ion bombardment
4. Process control
5. Application of sputtered hard coatings
6. Industrial coating systems
7. Future trends
|
|
 |
장단점 1.자기소개서란?
2.자기소개서 작성법 및 주의사항.
3.좋은 자기소개서의 조건.
4.자기소개서 서술기법.
추천 자기소개서 TOP 30
1.건강_의료_제약_보건 2.결혼_이벤트_도우미
3.공무원_공공기관_공사_협회 4.미용_코디네이터_
|
|
 |
장단점에 대해 기술해주시기 바랍니다. (최소 100자, 최대 500자 입력가능
3. 지원하신 직무와 관련하여 습득한 지식과 경험에 대해 기술해주시기 바랍니다. (최소 100자, 최대 500자 입력가능)
4. 앞으로의 계획과 포부에 대해 기술해주시기 바랍
|
|
 |
장단점]
주위 사람들은 제가 좀 지나치게 세심하다고 지적하지만, 저는 그러한 세심함이 인간관계를 맺는데 있어서,혹은 무슨 일을 하던지 꼼꼼하게 처리할 수 있는 요인이라고 생각합니다. 또한 저는 항상 상대방의 입장에서 편안한 상대가
|
|
 |
장단점과 종류를 알고 있나요?
7. 반도체 8대 공정 중에 가장 중요한 공정이 무엇이라고 생각하나요?
8. 에너지 밴드갭에 대해서 알고 있나요?
9. 플라즈마에 대하여 아는 만큼 설명해 주십시오.
10. CIS에 대해서 알고 있는 것을 설명해주세요.
|
|
 |
플라즈마를 이용한 살균 제품을 구상했습니다. 하지만 개발 과정은 순조롭지 않았습니다.
< 중략 >
Digital Transformation이 OO기업을 어떻게 변화시킬 것이라고 생각하는지 소개해 주십시오.
전기동 생산공정의 스마트화로 생산효율성을 극
|
|
메뉴펼치기
