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박막은 기판이나 도구의 보호를 위한 코팅으로 사용된다. 또한 광전지에서 박막기술을 활용하면, 대량생산이 가능하고 효율이 높기 때문에 박막 광전지에 활용할 수 있는 물질에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 1. Sputtering
1-1. 용어
1
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아르곤(Argon)
- 주기율표의 화학 원소로 기호는 Ar이고, 원자 번호는 18이다. 18족에 속하는 비활성 기체로 지구 대기의 약 1%를 차지하며, 비활성 기체 중 지구에서 가장 흔하다.
◆ 박막(Thin film)
- 기계가공으로는 만들 수 없는, 두께가 um 이
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진공 증착
① 물리적 기초
② 실험 기술
(3) 이온을 이용하는 방법과 음극 스퍼터링
① 2극 스퍼터링의 원리
② 음극 스퍼터링의 몇 가지 특수한 장치
③ 저압 음극 스퍼터링
④ 이온 프레이팅과 이온빔을 이용한 방법
5) 막의 두께 측정방
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터의 동작 원리·············19
2.3.4 유기 박막 트랜지스터의 전기적 특성··········21
제3장 박막 형성 공정 및 분석법············25
3.1 박막 형성 공정···························25
3.1.1 진공·····
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및 어닐링(Annealing)
박막 증착의 기술 및 공정
- 개요
1. 기화법 (Evaporation)
2. 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition)
(1) CVD 장치
(2) 박막 성장 메커니즘
3. 스퍼터 증착(Sputter deposition)
(1) 스퍼터링의 정의
(2).스퍼터링의 종류
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진공도는 torr 이하로, 에 대한 유량비를 각각 0%, 1%, 2%, 4% 그리고 6%로 변화시켰다. 타겟 표면의 불순물을 제거하기 위하여 Ar가스 하에 5분간 pre-sputtering 한 후 시료의 두께가 대략 50nm 5nm가 되도록 증착하였다.
1-2. 전기적 특성 평가 (I-V)
NiO 박막
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3.2.3 광흡수층
3.2.4 완충(Buffer) 층
3.2.5 윈도우(Window) 층
3.2.6 반사방지막과 전극
3.2.7 패터닝
제 4장 CIGS 태양전지의 특성평가
4.1 측정목적, 측정장비 및 방법
4.2 측정결과 및 분석
제 5 장 결 론
참고문헌
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