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CVD (Chemical Vapor Deposition) **
1. CVD (Chemical Vapor Deposition)
3. CVD의 종류
4. CVD Reactor
5. CVD Kinetics
6. LPCVD
7. Si, SiO2, Si3N4 박막형성 공정
8. 저온 CVD 공정
9. PECVD
** Sol-Gel process **
1. Sol-Gel 법의 발전
2. Sol-Gel 법이란
3. Sol-Gel 법의 원료
4.
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CVD
- Chemical vapor condensation
- Combustion flame or Aerosol
액상합성법 Bottom up
- Hydrothermal pyrolysis
- Electrodeposition
- Rapid solidification
- Sol-Gel
고상합성법 Top down
- Mechanical alloying/Ball mill
- Sliding wear
- Spark erosion
3.자료출처
일반적인 세라믹분말 제조
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준
가공품의 투과율이 미가공품의 투과율 50%이하(가림율이 50%이상을 의미)일 경우 다음의 3가지로 분류한다.
가림율 90%이상, 80~90%, 50~80%
아래와 같은 ISO 제안법도 넓게 이용되고 있다.
ISO 제안법(오스트레일리아법…SPF값에 의한 방법)
ISO N1868
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CVD
WF6
Mo
(MoSix*)
열 CVD
MoCl5, H2 (SiH4*)
MoF6, H2(or Si)
5. 참 고 문 헌
[1] Goiyama Hiroshi, ‘CVD핸드북’, 반도출판사, 1993
[2] K.L.Choy, ‘Chemical Vapor depostion of coatings’, Progress in Materials
Science, 2003
[3] Stanley Middleman, K.Hochberg , 'Process Engineering Analysis in Semicon
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식에 의해 에스테르화 반응과 해중합 반응(depolymerization)이 일어난다는 사실이다.
SOL-GEL Processing 요약
Sol-gel 중합과정은 3 단계로 일어난다:
1. 중합과정에 의한 입자의 형성 (Polymerization of monomers to form particles)
2. 입자의 성장 (Growth of particles)
3.
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프로세스 맵핑, X-Y Matrix 기법 등을 배웠습니다. 문제를 파악하고, 이를 다방면에서 꼼꼼하게 분석하여 해결해내는 저의 역량을 활용한다면, 실제 공정 과정에서도 문제점을 파악하고 개선하는데 도움을 줄 수 있을 것입니다. ?My Competency
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