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porous type)
- 기공형 피막에 있는 베리어 레이어의 반응이 이 층을 통해서 일어난다.
2) 장벽형 피막(barrier type)
- 장벽형 피막은 표면이 장벽처럼 되어 있는 것으로 100V로 걸어주면 두께가 130nm가 되어 피막이 형성된다. 그런데 이 피막은 전기를
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의 용이하고 생성된 유리의 점도도 낮아지며 이로 인해서 동일조건 하에서도 결정화도가 높은 경향을 보인다. 그러나 다양한 결정상의 석출로 인해 물성은 현저하게 저하된다. 또한, Al2O3의 양이 증가하는 경우에는 Cordierite 화학 양론적 조성
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Purpose of the Experiment
Understanding the principle and characteristics of the MOS Capacitor
C-V, I-V analysis in accordance with the thickness of the Al2O3 insulator
Insulator thickness (6nm, 12nm, 18nm)
Experimental Background
MOS Capacitor
MOS Capacitor structure
MOS Capacitor pri
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Al2O3 제조
①석고 주형 제작
-원하는 형상에 맞게 주형을 제작
-slurry를 붓기 전 완전히 건조된 상태여야 drain이 잘된다.
-40~50%의 기공률을 가지며 기공의 크기는 1~5μm정도가 적당
②슬러리 제조 (용액 : 증류수)
첨가제 : Dispersant – PAA
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Al2O3-SiO2 系에서 Anorthite 合成 및 그 物性에 關 硏究.
백용혁. 한양대학교 대학원. 1983. 6
· β-Spodumene 계 결정화유리에 첨가된 알칼리류 산화물의 영향.
이원호. 한양대학교 대학원. 1992. 12
· Gehlenite(2CaO·Al2O3·SiO2)의 석출이 유리/결정화유리+알루
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Fig. 4-2-3 볼밀기
Fig. 4-2-4 볼밀과정 Fig. 4-2-5 핫 플레이트
볼밀 과정시 섞인 알코올과 볼밀 후에 씻어낸 알코올을 핫 플레이트로 증발시켜 준다.
(3)건 조
- 증발 시킨 분말을 오븐에 건조시킨다.
- 함수량이 3%정도가 될 때까지 충분히 건조시킨다.
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위해 pH미터를 이용하여 입도분석을 계속해서 실시해 주었다. 그 결과 이 실험에서의 겔은 염기성 조건에서 형성된다. 실험에서의 입도분석은 장비를 이용하여 할 수가 없었기 때문에 눈대중으로 입도분석을 하고 pH미터를 이용하여 입도분석
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[4]. http://en.wikipedia.org/wiki/Ammonia
[5]. http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=980712&cid=2907&categoryId=2907
http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=608983&cid=2905&categoryId=2905
[6]. http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=1160563&cid=40942&categoryId=32391
http://terms.naver.com/entry.n
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board(A), middle : slag line(B), bottom : metal zone(C)
Table 2. Chemical composition of MgO-Cr2O3 brick, A, from hot face to the 50mm
inside.
wt%
Depth
MgO
Cr2O3
Al2O3
SiO2
Fe2O3
CaO
Na2O
TiO2
Surface
27.69
17.52
11.74
0.86
31.56
0.80
0.044
0.13
0∼10mm
50.49
22.29
8.69
0.97
10.75
0.74
0.028
0.096
1
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Chelete 적정법
금속 지시약은 금속이온과 반응하여 정색현상을 나타내므로, 이것을 이용하여 킬레이트 표준용액으로 적정할 수 있다. 이와 같이 킬레이트 표준용액을 사용하여 금속이온을 적정하는 용량분석법을 킬레이트 적정법이라한
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