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Paper, 삼성경제연구소(www.seri.org), 2002.7.29.
12. _____ , 「미디어는 콘텐츠다」,김영사,2002.
13._____, “한국 문화산업 발전을 위한 긴급제언”, 삼성경제연구소, 2002.8.14.
Alvin Toffler, 「위기를 넘어서: 21세기 한국의 비전」,2001.6.7.
14.양기환, “국제
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Paper for the Twentieth Century Fund Task Force on School Governance in Facing the Challenge, New York: the Twentieth Century Fund/Danforth Foundation.
Gargan, John J.(ed.)(1997), Handbook of Local Government Administration, New York : Dekker.
Glass, T. E.(1994), The 1992 Study of the American Schoo
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Paper, 2000
OECD, Institutional Investors Statistical Yearbook, 2001a
, OECD 2000 Private Pensions Conference No.1, 2001b
, OECD 2000 Private Pensions Conference No.3, 2001c Ⅰ. 서론
Ⅱ. 퇴직금제도의 현황
1. 우리나라의 연금제도 체계
2. 현행 퇴직금제도
3. 퇴직금제
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Paper Series, Manchester: IDPM, 1998.
Heeks, R., "Software Strategies in Developing Countries", Communications of the ACM, Vol. 42,No. 6, 1999.
Lall, S., "Technological Capabilities in Emerging Asia", Oxford Development Studies, Vol. 26, No. 2, 1998.
Lall, S., Learning to Industrialize, Basingstoke:
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Papers.
_____(2000), "Enhancing the Competitiveness of SMEs Through Innovation".
_____(2000), "Local Partnership, Clusters and SME Globalization". Ⅰ. 서 론
Ⅱ. 21세기 산업여건의 변화
1. 글로벌 여건의 변화
2. 우리나라 산업기술정책의 변화
Ⅲ. 우리나라의 산업구
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Papers in Regional Science, Vol. 71, pp. 95～106.
Harrigan, K. and W. Newman(1990), “Bases of Interorganization Co-operation: Propensity, Power, Persistence,” Journal of Management Studies, Vol. 27, pp. 417～435.
M. Porter, Competitive Advantage, New York : The Press, 1985
Jung, Woo(1998), “Small an
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Paper, No. 2, March, 2001 Ⅰ. 서론
1. 연구의 배경 및 목적
2. 연구의 방법
3. 연구의 흐름
Ⅱ. 연구의 이론적 배경
1. 지급결제시스템에 대한 이해
2. 금융안정과 지급결제시스템
Ⅲ. 디지털금융의 발전과 지급결제부문의 변화
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Paper, 2005
김영철, “지역복지사회 건설을 위한 새마을금고의 역할”, 조사연구, 1999
대한상공회의소, “한국경제의 현상과 정책과제”, 2004. 3
류진춘, “21C 협동조합으로서 새마을금고의 기능과 역할, 조사연구”, 13권, 2003
안동준, “협종조
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Paper, 삼성경제연구소
노윤정(2005), “일본 문화개방과 문화산업에 대한 연구 : 애니메이션 수입개방을 중심으로”, 서울대학교 행대학원, 석사학위논문
대외경제정책연구원(2002), “최근 뉴질랜드 경제호황의 배경과 시사점”
대한상공회의
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paper, the inspection of surface properties under n-octadecyltrichlorosilane treated SiO2 film was carried out by current-voltage characteristic and the scanning electron microscope. The voltage at zero current in low electric field is the lowest at 0.3 % OTS treated SiO2 film with hybrid type. SiO2
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