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리소그래피의 연구 및 개발에 널리 쓰여지고 있을 뿐만 아니라 소자 생산의 중요한 하나의 도구가 되고 있다.
2. 이 론 / 공 정
(1) Lithography : 마스크상의 기하학적 패턴을 반도체 웨이퍼 표면을 덕고 있는 Photoresistor에 옮기는 과정. U.V ( 파장이
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포함하는 기체를 도입하여 조절한다.
◎참고문헌 및 자료 출처
- Robert F. Pierret, 박창엽 역, 반도체소자공학, 교보문고, 초판, 1997, pp.149-164 반도체 공정과정
1. 산화
2. 확산
3. 이온주입
4. 리소그래피
5. 박막증착
6. 에피택시
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Lithography (X선 리소그라피)
X-rayLithograph는 반도체 웨이퍼 위에 감광(X-ray) 성질을 가지고 있는 포토 레지스트 (Photoresist)를 얇게 바른 후, 원하는 마스크 패턴을 올려 놓고 X 선을 가하여 사진을 찍는 것과 같은 방법으로 회로를 구성한다. 회로
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2.반도체
3.N형 반도체와 P형 반도체
4.다이오드의 특성 곡선
5.제너다이오드에 의한 전압안정화
6.lithography기술
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다중성
1) 광고상품시장
2) 정치상품시장
3) 금융상품시장
4) 독자시장
Ⅳ. 신문 기자상 보도에 대한 보도의 편협성과 홍보
Ⅴ. 각국의 신문저널리즘 생존 전략
1. 구조적 생존전략
1) 매체복합화 전략
2) 권언동거 전략
3) 언론정권의
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