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CVD(화학적 증착법)
화학적 증착법의 종류
1)열분해법
2)수소 환원법
3)화학 반응법
4)광화학 반응법
열CVD
1)열 CVD의 장점
2)열 CVD의 단점
3)열 CVD 방식
플라즈마 CVD
대표적인 플라즈마 CVD 특징과 장치
1.고주파 플라즈마 CVD
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기상증착법
(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
플라즈마CVD는 열CVD에 비해서 저온에서 탄소나노튜브를 합성시킬 수 있는 장점이 있으며, 플라즈마CVD에서 방전을 일으키는 전원은 직류(DC) 또는 고주파 전원의 두 가지로 구분할 수 있는데, 고주
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기상증착법
(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
플라즈마CVD는 열CVD에 비해서 저온에서 탄소나노튜브를 합성시킬 수 있는 장점이 있으며, 플라즈마CVD에서 방전을 일으키는 전원은 직류(DC) 또는 고주파 전원의 두 가지로 구분할 수 있는데, 고주
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CVD
화학기상성장법 [化學氣相成長法, chemical vapor deposit
IC(집적회로) 등의 제조공정에서 기판 위에 규소 등의 박막을 만드는 공업적 수법으로 약칭은 CVD이다. 화학물질을 포함하는 가스에 열이나 빛으로 에너지를 가하거나, 고주파로 플라스
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화학기상성장법 [化學氣相成長法, chemical vapor deposition
IC(집적회로) 등의 제조공정에서 기판 위에 규소 등의 박막을 만드는 공업적 수법으로 약칭은 CVD이다. 화학물질을 포함하는 가스에 열이나 빛으로 에너지를 가하거나, 고주파로 플라스마
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