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화학기상증착(CVD)법
1) 熱 CVD
2) 플라스마 CVD
3) 光 CVD
4) MO-CVD
5) 레이저 CVD
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화학 반응에 의해 증착되는 금속, 반도체, 부도체의 얇은 층을 말한다.
박막 제조의 대표적인 4가지 방법은 다음과 같다
1) 화학 기상증착 (CVD : chemical vapor deposition)
2) 물리 기상증착 (PVD : physical vapor deposition)
3) 원자층 화학증
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증착공정이다. LP-CVD(저압 화학기상증착) 장비를 공급하는 유진테크, PE-CVD(플라즈마 화학증착) 장비를 공급하는 원익IPS, 주성엔지니어링, 테스 총 4개 업체를 눈여겨볼 만하다
테스 외 원익IPS, 주성엔지니어링, 유진테크는 ALD(원자층 증착) 장
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증착방법 및 증착 장치
- 저주파 스퍼터링 장치를 이용하여 제조되는 투명 전극용 산화인듐주석 박막 및 그 제조방법
- MOD법에 의한 ITO 투명전도성 박막의 제조
- 화학기상증착법에 의한 ＩＴＯ박막 제조방법
- 원자층 증착법에 의한
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화학적 증착법의 종류
1)열분해법
도입된 가스를 가열된 기지 위에서 열분해하여 증착층을 형성하는 방법으로 금속 할로겐화물의 고온 열분해와 수소화합물, 카르보닐 및 금속 유기염의 저온 열분해가 있다.
2)수소 환원법
강력한 환원
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제 3 장. 실험 방법 30
제 1 절 기판 및 시약 준비 30
제 2 절 OTS 증착 31
제 3 절 MIS 커패시터의 제작 34
제 4 장. 실험 결과 38
제 1 절 누설전류 특성 38
제 2 절 펜타센 증착 표면 43
제 5 장. 결 론 51
참고문헌 52
Abstract 55
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화학기상 증착법
(2) 열처리에 의한 재결정법
(3) 직접 증착법
(4) 엑시머 레이저 열처리법
ELA 방법에 의한 다결정 실리콘‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥6
(1) 결정화 순서
(2) 공 정
(2-1) 전반적 공
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수 있는 다공성 전극, 전도성 고분자, 금속-유기 골격체(MOF) 기반 소재의 합성과 응용 연구를 수행토록 하겠습니다. 이를 위해 습식 화학 합성, 전기화학적 도금, 스프레이 열분해, 원자층 증착(ALD) 등의 기법을 활용하여 다양한 나노구조 소재
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화학기상증착장비(CVD) 개발을 서둘러 기존 트랙장비·매엽식 세정장비(SWP) 등과 함께 전공정 장비 분야를 확대할 계획을 가지고 있습니다. 저는 부가가치가 높은 주요 전공정 장비를 앞세워 시장을 개척하고 반도체 장비를 설계하겠습니다.
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증착 중 예기치 않은 파티클 발생을 책임지고 해결한 경험이 있습니다. 과제 평가 항목에
수율이 포함되어 있었기 때문에, 화학 기상 증착 과정에서 갑작스러운 파티클 발생은 치명적으로 다가왔습니다.
3.LG화학에서 이루고 싶은 나만의 꿈
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원자층 증착, 3D 집적 기술 등의 연구를 통해 차세대 반도체 공정 기술을 향상시킬 수 있습니다.
반도체 소자의 성능을 극대화하고 신뢰성을 높이는 새로운 공정 기법을 개발할 수 있습니다.
3) 뉴로모픽 컴퓨팅 및 AI 반도체 응용 연구
AI 연산
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화학적 특성을 분석하고 개선하는데 도움이 될 것입니다.
네 번째로 6시그마 그린벨트의 DMAIC를 바탕으로 화학공장 설계프로젝트에서 생산량과 수율을 개선시킨 경험이 있습니다. 이러한 저의 데이터 분석을 통한 공정개선 능력은 공정기술
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