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기술은 크게 자기헤드 기술, 자기기록 기술, 서보 기술 등으로 분류가 가능하며 초고밀도 기록을 달성하기 위해 핵심 원천 기술이라 할 수 있는 자기헤드 및 자기 기록 매체용 자성박막기술의 개발이 매우 중요하다.
이와 더불어 칩 형태의
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자성층에 삽입하는 연구가 활발하다. 이밖에도 기존의 면수평(Current-In-Plane, CIP) 방식으로 흘려주던 전류를 면수직(Current-Perpendicular-to-Plane, CPP) 하게 주입하여 바이어스 제어 및 감도의 증가를 모색하는 기술에 관심이 모아지고 있다.
[그림 3]
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박막의 제조기술에 관한 연구 - 고려대학교 재료공학과
○ 위 논문을 읽고 참고하였는데 SBT 박막을 660~780℃까지를 40℃ 간격으로 열처리한 자료를 토대로 생각을 하면 780℃에서 가장 큰 강자성 이력곡선을 나타냈다. 다시 말해 온도를 높이
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참고문헌
● 네이버 지식 - 재료과학과 공학
● 한국 세라믹 학회지 1990년 27권 1호
● 한국 세라믹 학화지 2003년 40권 1호
● 물리학과 첨단세계 2005년 10월 ■ 박막 제조 공정
펌프종류
● Sputtering의 종류
PVD
CVD
유전체란
강유전체란
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자성박막 두께 변화에 따른 스핀방향천이 현상
(Carcia et al., APL 47, 178 (1985)]
그림 2. 거대 자기저항(GMR) 현상.
(Baibich et al., PRL 61, 2472 (1988)
그림 3. 광자기 기록기술 개략도
그림 4. GMR 스핀 밸브 헤드 구조
그림 5. 자기 메모리(MRAM) 개략도 1. 서
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