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표면에 강한 밀착력을 가진 박막을 형성
● 균일한 코팅 두께를 형성하기 위하여 코팅 공정 시 여러 축에 치구된 제품들은 일정한 속도로 회전
2. PVD 법
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3. PVD 개요
● PVD 란? 진
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PVD법
2.1 PVD 란?
2.1 PVD 원리
2.3 PVD 개요
2.4 PVD 영상
2.5 PVD 장·단점
3. PVD 종류
3.1 PVD 종류
3.2 증발 (아크증발법)
3.3 이온도금 (이온주입법)
3.4 스퍼터링
3.4.1 강화된 스퍼터링
4. PVD 장비
5. 진공의 필요성
6. 박막 성장 기
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공학', 복두출판사, 1995
[6] 이종덕, '실리콘집적회로 공정기술', 대영사, 1997
[7] 신현국, 'CVD/ALD 재료 기술 동향', (주)유피 케미컬, 2005
[8] 김상훈, ‘Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition’, 전북대학교, 2008
참 고 사 이 트
[9] http://blog.naver.com/ycin6306/900
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표면공학회, 2004
이건호 외 1명, 해양에서 황산화물 오염 규제에 대한 소고, 한국해양환경공학회, 2008
이상복, 황산공업, 한국화학공학회, 1983
이영란 외 3명, 시설 내 아황산가스에 의한 난의 피해 증상, 한국화훼산업육성협회, 2009
한상준,
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표면 공학의 개념 -
1. How Do We Define Surface?
2. How Many Atoms In A Surface?
3. Information Required
4. Surface Sensitivity
5. Radiation Effects
- 진공의 정의 그리고 진공펌프 & 진공게이지 -
1. Gases And Vapours
2. The Pressure Regions Of Vacuum Technology And Their Characteristics
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