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많이 활용되지 못하고 있는 것으로 보이며 이러한 문제점들에 대해서는 현재에도 지속적인 개선작업이 이루어지고 있다. ICP-MS (Inductively Coupled Plasma)
(1) ICP-MS란?
(2) 구성장치
1. Interface
2. 질량분석장치
(3) 기존 장비와의 비교
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Inductively Coupled Plasma etching system(Journal of The Electrochemical Society 158(1) H2 2011)
[3] Etching of CoFeB Using CO/NH3 in an Inductively Coupled Plasma Etching System, Jong-Yoon Park외 5인, Journal of The Electrochemical Society, 158 1H1-H4 2011
[4] X. Peng. S. Wakeham, A. Morrone, A. Ax
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플라즈마 방출 분광법(ICP-AES)란?
? ICP의 원리 : ICP는 ‘inductively coupled plasma(고주파 유도 결합 플라즈마)’의 약어이다. 중성원자에 열에너지가 주어지면 기저상태(Ground state)에 있는 전자는 높은 준위로 전이하여 들뜬상태(Excite state)가 된다.
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J.A.Maxwell, Rock and Mineral Analysis, John Wiley & Sons, New York, 1981, p55-88.
8. Michael Thompson and J. Nicholas Walsh, Handbook of Inductively Coupled Plasma Spectrometry, Blickie, New York, 1989, p93-88. 1. 서론
2. 시료의 분쇄
3. 암석 및 광물시료의 분해[5-8]
4. 결론
참고문헌
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플라즈마 가스의 준비
아르곤가스 : 액체 아르곤 또는 압축아르곤 가스로 순도 99.99%(V/V%) 이상의 것
▷설정조건
고주파 출력 : 수용액 시료의 경우 0.8~1.4 ㎾, 유기용매 시료의 경우 1.5~2.5 ㎾로 설정한다.
가스의 유량 : 플라즈마 토치 및 시료
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