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식각 특성이 향상되는 결과를 얻을 수 있다고 할 수 있다.
5. 참고문헌
[1] Tae Young Lee, Etch characteristics of magnetic tunneling junction stack for developing magnetic random access memory, 2013, pp21-25.
[2] Geun-Young Yeom, Etching of COFeB usig CO/NH3 in an Inductively Coupled Plasma etchi
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플라즈마 강화 사이클릭 증착 방법, 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 2009
신혜라, 박막 트랜지스터의 제조방법 및 상기 방법에 이용되는 식각액 조성물, 동우 화인켐 주식회사, 2008
신수범, 포토리소그래피와 나노임프린트 리소그래피를 결합한
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식각)에서의 공용매의 개발이나 공정과정의 개선 그리고 새로운 형태의 소자회로 구현 등을 통해 SLS기술이 보안 될 것이다.
그리고 이러한 보안과 개선 기술들을 기반으로 하여 대형 디스플레이에서의 LTPS 를 위한 기술을 개발하는 방향으로
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특성 때문에 에칭이 필요한데 그 이유는 미세조직 관찰 현미경이 빛의 전반사와 난반사의 효과에 의존하므로 일부로 부식작업인 에칭은 중요한 작업이다.
위 결과에서 상태도를 통해 추정하였듯이 이 재료는 아공소강으로 탄소함량이 0.3%~0.5
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특성 때문에 에칭이 필요한데 그 이유는 미세조직 관찰 현미경이 빛의 전반사와 난반사의 효과에 의존하므로 일부로 부식작업인 에칭은 중요한 작업이다.
위 결과에서 상태도를 통해 추정하였듯이 이 재료는 아공소강으로 탄소함량이 0.3%~0.5
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