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MOCVD 장치
MOCVD 장치는 다섯가지 부속장치인 reservoir, vapor delivery & mixed system, deposition chamber, pumping system, chemical scrubber system로 이루어진다. 박막의 조성과 증착속도는 반응기 내의 여러 가지 precursor의 분압과 박막이 증착되는 곳의 온도와 반응
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쉽기 때문이다. PVD
evaporator : thermal, e-beam, laser
sputtering : DC, RF, 마그네트론스퍼터링
step coverage
CVD
homogeneous reaction & Heterogeneous reaction
Mass Transport Controlled vs Surface Reaction Controlled
Thermodynamics vs Kinetics
MOCVD
PECVD
HW-CVD
Furnace
ICP-CVD
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대해, 실제 물체의 크기는 200 A 이하로 생각하면 된다.
탐침에 의한 이미지인지를 확인하기 위해서는 이미지를 통하여 반복되어진 특별한 형상을 찾으면 된다. 크기가 서로 다른 물체와 탐침이 합성되는(tip-convolution) 현상으로 인해서 크기를
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대해 조사한다.
열 증착법은 저항가열식 기상증착법으로 불리며 이 방법은 고융점의 filamant, basket 또는 boat등의 열적 source가 필요하며, 특히 잘 쓰이고 있는 열적 source재료로는 , , 등으로 이 금속들의 박 또는 선을 적당한 형상으로 만들어 증
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MOCVD)장비 동종 업체인 아펙스(대표 김상호)를 인수, 합병키로 함에 따라 약 40여명의 전문인력을 확보했다.
이 회사 황철주 사장은 "이번 인수, 합병의 가장 큰 목적은 동종업체간 과도한 시장경쟁을 자제하고 신규 인력 확보를 통해 기술시너
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