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전문지식 1,170건

1. 화학기상증착(CVD)법 - 화학기상증착(CVD)은 여러가지 물질의 박막제조에 있어서 현재 가장 널리 쓰이고 있는 방법이다. 간단히 말하면 반응기체의 유입 하에서 가열된 substrate 표면에 화학반응에 의해 고체 박막이 형성되는 것을 일컫는데,
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  • 등록일 2006.11.26
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증착(Atomic Layer Deposition: ALD)법을 이용한 성막 공정이 차세대 반도체 소자 제조 공정에 중요하게 적용되기 시작하였다. ALD 공정은 전구체가 기판표면에 흡착 후, 표면 반응에 의해 박막을 증착하기 때문에 표면 반응 이외에도 기상 반응이 발생
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  • 등록일 2008.12.21
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 참고문헌 있음
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피하고 있다. 3. 결론 기판에 증착된 박막의 두께는 0.34 이었다. 4. 참고문헌 ‘현대물리학’ A.Beiser저, 정원모 번역. ‘고체전자공학’, Streetman, Ben G, 喜重堂, 1991. 전자재료실험 매뉴얼. 목적 이론 실험방법 결과및토론 결론 참고문헌
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  • 등록일 2011.01.19
  • 파일종류 한글(hwp)
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WHAT IS THIN FILM? KIST Definition (1991) - Thin Film : 기판층(substrate layer)에 형성된 수 m 이하의 두께를 갖는 것으로 독립적인 기능을 보유한 막. ADVANTAGES OF THIN FILM Complexibility and Accumulations Easy processing lm) Easy Control of Thermal, Mechanical and Chemical Propert
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  • 등록일 2008.12.21
  • 파일종류 피피티(ppt)
  • 참고문헌 있음
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화학기상증착법(CVD) 지난 장은 물리학적인 바탕으로 박막을 증착하는 방법(이베포레이션과 스퍼터링)에 대한 것이었다. 이것들을 물리적인 프로세스라고 하는데 그 이유는 그러한 기술이 화학 반응과 관련이 없기 때문이다. 오히려 그 방
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  • 등록일 2012.10.18
  • 파일종류 워드(doc)
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논문 9건

법 ‥‥‥‥‥·‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥4 (1) 초저압 화학기상 증착법 (2) 열처리에 의한 재결정법 (3) 직접 증착법 (4) 엑시머 레이저 열처리법 󰊴 ELA 방법에 의한 다결정 실리콘‥‥‥‥‥‥
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  • 발행일 2010.01.16
  • 파일종류 한글(hwp)
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제 3 장. 실험 방법 30 제 1 절 기판 및 시약 준비 30 제 2 절 OTS 증착 31 제 3 절 MIS 커패시터의 제작 34 제 4 장. 실험 결과 38 제 1 절 누설전류 특성 38 제 2 절 펜타센 증착 표면 43 제 5 장. 결 론 51 참고문헌 52 Abstract 55
  • 페이지 56페이지
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  • 발행일 2008.03.12
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  • 저자
ReRAM 2. 비휘발성 메모리 시장 전망 2-1. 대기업 참여 현황 II. 본 론 1. NiO 물질을 이용한 ReRAM 특성 구현 2. 실험 방법 1-1. R.F Magnetron Reactive Sputtering Deposition 1-2. 전기적 특성 평가 (I-V) 3. 실험 결과 및 분석 III. 결 론 IV. 참고문헌
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  • 발행일 2009.06.15
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  • 저자
박막 형 태양전지 2) 화합물 반도체 태양전지 가) I-III-VI족(CIS)태양전지 나) II-VI족(CdTe) 태양전지 다) III-V족(GaAs, InP)태양전지 3) 유기 태양전지 가) 개 요 나) 유기 박막 태양전지의 기본구조 다) 유기박막 태양전지의 제작방법
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  • 발행일 2010.05.31
  • 파일종류 워드(doc)
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  • 저자
법, 홀로그램방법을 이용하는 등 기학광학을 이용하는 기술이 증가하고 있다. 가공방법으로는 Photolithography가 일반적이나 MEMS기술, Stamp기술, 금형 직가공 방법 등 다양한 가공 방법을 적용하고 있다. 이 중 일본 Omron사는 LED 한 개를 사용하여
  • 페이지 31페이지
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  • 발행일 2010.01.16
  • 파일종류 한글(hwp)
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  • 저자

취업자료 36건

박막증착법에서 아이디어를 얻어 연구실 내 감압장치를 활용하고 해결할 수 있었습니다. 이는 마이크로 단위 유체에서 기포를 제거하기 위해 상대적 소수성 성질을 활용할 수 있었던 성공 요인으로 뽑혔습니다. 1. 삼성전자를 지원한 이
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  • 등록일 2025.04.03
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  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
박막 증착 중 예기치 않은 파티클 발생을 책임지고 해결한 경험이 있습니다. 과제 평가 항목에 수율이 포함되어 있었기 때문에, 화학 기상 증착 과정에서 갑작스러운 파티클 발생은 치명적으로 다가왔습니다. 3.LG화학에서 이루고 싶은 나만
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  • 등록일 2024.05.04
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  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
리 방법과 adhesion layer 증착법이 있었는데, adhesion layer와 촉매를 하나의 장비에서 연속적으로 증착이 가능하므로 공정의 효율성을 고려하여 adhesion layer 증착법을 선택했습니다. 또한, 물질로는 OO 또는 XX이 있었는데, XX은 OO와는 다르게 촉매와
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  • 등록일 2023.06.21
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  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
기상증착장비(CVD) 개발을 서둘러 기존 트랙장비·매엽식 세정장비(SWP) 등과 함께 전공정 장비 분야를 확대할 계획을 가지고 있습니다. 저는 부가가치가 높은 주요 전공정 장비를 앞세워 시장을 개척하고 반도체 장비를 설계하겠습니다. 또 핵
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  • 등록일 2012.10.29
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  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
박막을 증착하고 어닐링하여, Nanodot 형태의 응집 구조를 가지는 샘플을 제작하고 있습니다. 지난 학기에 새로운 타겟으로 은을 도입했습니다. 기판에 박막을 수 nm 두께로 조절하며 증착하기 때문에 초기에 초당 Deposition rate를 측정하여 확립
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  • 등록일 2025.04.06
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 산업, 과학, 기술직
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